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中國(guó)科學(xué)院北京物質(zhì)和納米科學(xué)
大型儀器區(qū)域中心
管理章程
第一條 北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心是利用北京地區(qū)納米科技大型儀器比較集中的優(yōu)勢(shì)，為促進(jìn)納米科技大型儀器的共享，提高大型儀器的使用效率和使用水平，從而促進(jìn)我國(guó)納米科技的發(fā)展而成立的區(qū)域性的技術(shù)支撐條件合作組織。
第二條 北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心的目標(biāo)是建成面向全國(guó)的、具有國(guó)際先進(jìn)水平的、開放的納米科技支撐平臺(tái)。
第三條 北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心由中國(guó)科學(xué)院批準(zhǔn)并支持建設(shè)，由國(guó)家納米科學(xué)中心牽頭組織，吸納北京地區(qū)其它具有納米科技大型儀器的單位參加。
第四條 北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心建設(shè)應(yīng)充分利用現(xiàn)有的設(shè)備與人才基礎(chǔ)，避免重復(fù)建設(shè)，充分發(fā)揮各單位的人才優(yōu)勢(shì)、資源優(yōu)勢(shì)，體現(xiàn)合作、開放的方針。
第五條 北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心成員單位的用戶使用其它成員單位提供的開放共享的大型儀器設(shè)備時(shí)享有與該單位內(nèi)部用戶平等的權(quán)利。
第六條 北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心成員單位應(yīng)能夠提供納米科技研發(fā)的重要大型儀器設(shè)備供其它成員單位和社會(huì)各界開放共享，并保證其它成員單位的用戶在使用這些設(shè)備時(shí)享有和本單位內(nèi)部用戶同等的權(quán)利。
第七條 申請(qǐng)參加北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心的基本條件：
1、參加單位愿意承擔(dān)作為這一合作組織成員相應(yīng)的義務(wù)；
2、參加單位提供的供開放共享的大型儀器設(shè)備應(yīng)具有相應(yīng)的專業(yè)技術(shù)支撐人員；
3. 供開放共享的大型儀器設(shè)備所在的實(shí)驗(yàn)室應(yīng)具有權(quán)威機(jī)構(gòu)認(rèn)可的或經(jīng)由其它方式證明了技術(shù)能力和管理水平，表明該實(shí)驗(yàn)室能夠持續(xù)地提供可靠的、高質(zhì)量的技術(shù)服務(wù)。
第八條 申請(qǐng)參加北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心的單位應(yīng)填寫《北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心入網(wǎng)申請(qǐng)表》，由區(qū)域中心管理委員會(huì)組織專家進(jìn)行評(píng)審。評(píng)審?fù)ㄟ^后，報(bào)指導(dǎo)委員會(huì)審批，審批通過后由辦公室通知申請(qǐng)單位；
第九條 根據(jù)納米科學(xué)發(fā)展的需要以及成員單位提供的供開放共享的大型儀器的實(shí)際運(yùn)行狀況，領(lǐng)導(dǎo)小組可取消成員單位的資格或增加新的成員單位。
第十條 成員單位提供的供開放共享的大型儀器應(yīng)有明確的、合理的開放共享管理辦法。成員單位制定的開放共享管理辦法經(jīng)管理委員會(huì)批準(zhǔn)后將通過網(wǎng)站向國(guó)內(nèi)（外）用戶公示。
第十一條 用戶如發(fā)現(xiàn)成員單位沒有執(zhí)行管理委員會(huì)批準(zhǔn)的開放共享管理辦法，或?qū)Τ蓡T單位的技術(shù)服務(wù)質(zhì)量有意見，可以向區(qū)域中心辦公室反應(yīng)。
第十二條 領(lǐng)導(dǎo)小組對(duì)成員單位提供的大型儀器的管理運(yùn)行和開放共享情況進(jìn)行年度考核，考核辦法由領(lǐng)導(dǎo)小組制定。考核結(jié)果報(bào)主管部門備案。
第十三條 對(duì)于未能盡到成員單位義務(wù)，或提供的開放共享的大型儀器管理運(yùn)行不良的成員單位，視情況將分別給予警告、暫停、取消其成員單位資格等處罰。
第十四條 本辦法由北京納米科學(xué)大型儀器區(qū)域中心管理委員會(huì)負(fù)責(zé)解釋。
大型儀器列表
| 編號(hào) | 儀器名稱 | 儀器型號(hào) | 儀器用途 |
| 1 | 細(xì)胞超微顆粒分析系統(tǒng)（流式細(xì)胞儀） | CytoFLEX LX | 流式細(xì)胞儀熒光檢測(cè),流式細(xì)胞儀熒光檢測(cè),流式細(xì)胞儀-細(xì)胞分選 |
| 2 | 實(shí)時(shí)熒光定量PCR儀（熒光實(shí)時(shí)定量PCR儀） | CFX96 | 基因表達(dá)研究、轉(zhuǎn)基因食品檢測(cè)、病原體檢測(cè)、疾病相關(guān)的等位基因點(diǎn)突變檢測(cè)和SNP檢測(cè)等實(shí)驗(yàn)的分析 |
| 3 | 凝膠色譜儀GPC（凝膠滲透色譜儀） | 安捷倫 1260 | 分子量測(cè)定（流動(dòng)相六氟異丙醇）,分子量測(cè)定（流動(dòng)相水、DMSO、DMF、氯仿等） |
| 4 | 串聯(lián)氣質(zhì)聯(lián)用儀（氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀） | GCMS-8040 | 氣質(zhì)分析，成分及其含量分析 |
| 5 | 元素分析儀 | Various MACRO | 碳、氫、氮、硫元素含量,有機(jī)碳含量 |
| 6 | 非損傷掃描電極測(cè)試儀（非損傷微測(cè)系統(tǒng)） | NMT 150-YG | 樣品離子/分子流速數(shù)據(jù) |
| 7 | 生物大分子互相作用分析儀 | Octet K2 | 互作動(dòng)力學(xué)常數(shù)KD、Kon、Koff測(cè)試 |
| 8 | 自動(dòng)微生物快速鑒定儀（自動(dòng)微生物鑒定系統(tǒng)） | GEN III MicroStation | 微生物鑒定 |
| 9 | 多功能激光加工機(jī) | JHM-2GX-2000W | 激光加工 |
| 10 | 車削中心 | QT300MA L/650 | 臥式車削加工 |
| 11 | 立式加工中心 | VCN-510CIIL | 立式銑削加工 |
| 12 | 氙燈老化箱 | XL-1000 | 氙燈老化箱 |
| 13 | 水蒸氣透過率測(cè)定儀 | W3-010 | 水蒸氣透過率測(cè)定儀 |
| 14 | 非接觸式全場(chǎng)應(yīng)變測(cè)量系統(tǒng) | MTI-3DHR | 非接觸式全場(chǎng)應(yīng)變測(cè)量系統(tǒng) |
| 15 | 小角X射線散射儀 | SAXSpace | 小角X射線散射儀 |
| 16 | 傅里葉變換紅外光譜儀 | FT/IR-6800 | 傅里葉變換紅外光譜儀 |
| 17 | 哈克轉(zhuǎn)矩流變儀 | PolyLabOS | 哈克轉(zhuǎn)矩流變儀 |
| 18 | 微流控生物分析系統(tǒng) | LabChip GXII Touch | 微流控電泳 |
| 19 | 高光譜納米熒光成像系統(tǒng) | HSI | 納米材料檢測(cè)及高光譜分析 |
| 20 | 電子順磁共振波譜儀（2018） | EMXplus-9.5/12 | 原位光照實(shí)驗(yàn)測(cè)試,原位變溫實(shí)驗(yàn)測(cè)試,電子自旋順磁測(cè)試,自由基電化學(xué)測(cè)試 |
| 21 | 高精度晶體線切割機(jī) | WSD-2A | 晶體元件切割 |
| 22 | 超臨界流體色譜串聯(lián)四極桿質(zhì)譜聯(lián)用儀 | Acquity UPCC/Xevo TQ-S micro | 液質(zhì)聯(lián)用 |
| 23 | 廣角/小角X射線散射結(jié)構(gòu)分析儀(SAXS/WAXS) | Nano-inXider | 室溫物相分析,變溫物相分析 |
| 24 | 顯微紅外光譜儀(SP-200i) | spotlight 200i | 顯微紅外分析,顯微紅外分析,顯微紅外分析,紅外光譜測(cè)試,顯微紅外分析 |
| 25 | 超分辨共聚焦顯微鏡 | Leica SP8 STED 3X | 超分辨STED,激光共聚焦顯微鏡觀察 |
| 26 | 電感耦合等離子體質(zhì)譜 | Thermo iCAP RQ | 元素定量（除CHONF） |
| 27 | 熱重分析儀 | TG 209F3 | 熱重分析 |
| 28 | 原位超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡及能譜儀(SEM) | JSM-7800(Prime) | 樣品表面形貌掃描,高真空能譜分析 |
| 29 | X射線單晶衍射儀 | D8 Venture | 單晶衍射儀晶體結(jié)構(gòu)分析 |
| 30 | 小動(dòng)物CT/光學(xué)成像系統(tǒng) | Perkins Elmer | 掃描成像,核醫(yī)學(xué)影像,微納米三維成像,CT成像，內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析,高對(duì)比度時(shí)高分辨成像(1線對(duì)/mm),高對(duì)比度時(shí)高分辨成像（50線對(duì)/mm）,CT成像,光學(xué)成像 |
| 31 | 涂膜機(jī) | CEE-200CBX | ? |
| 32 | 氣質(zhì)聯(lián)用儀GCMS-島津 | GCMS-QP2020 | 氣質(zhì)聯(lián)用-物質(zhì)定性定量分析,有機(jī)化合物的定性定量分析,物質(zhì)定性分析 |
| 33 | 氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀（氣質(zhì)聯(lián)用儀GCMS） | GCMS QP2010 Ulltra | 氣質(zhì)聯(lián)用,物質(zhì)定性分析 |
| 34 | 和頻振動(dòng)光譜儀 | Astrella-1k-USP | 表界面分子結(jié)構(gòu)（自測(cè)）,表界面分子結(jié)構(gòu) |
| 35 | 雙光源X射線單晶衍射儀 | BRUKER D8 VENTURE | 單晶結(jié)構(gòu)分析 |
| 36 | 比表面積及孔隙度分析儀(Asap2420) | ASAP2420-4 | 固體的比表面積、孔徑分布,微孔分析,介孔分析,固體的比表面積、孔徑分布 |
| 37 | 全自動(dòng)反應(yīng)量熱儀 | RC1e | 反應(yīng)熱、反應(yīng)比熱、反應(yīng)焓及傳熱系數(shù) |
| 38 | 圓偏振熒光光譜儀(CPL-200) | CPL-200 | 圓偏振變溫光譜,圓偏振常溫光譜 |
| 39 | 穩(wěn)態(tài)/瞬態(tài)熒光光譜儀(Nanolog) | NanoLOG-TCSPC | 上轉(zhuǎn)換熒光測(cè)試,低溫?zé)晒鉁y(cè)試,絕對(duì)量子效率測(cè)試,熒光壽命測(cè)試,熒光光譜測(cè)試,熒光測(cè)試 |
| 40 | 600MHz液體核磁共振波譜儀 | AVANCE III HD 600 | 一維套譜1H+13C+DEPT135,DEPT/NOESY/ROESY/TOCSY/HMBC,QC/COSY,液體一維雜核譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關(guān)譜,液體二維碳譜,液體二維NOESY譜,液體二維ROESY譜,二維套譜COSY+HSQC+HMBC,液體譜（氫譜）,一維磷譜,液體一維雜核,液體一維氫譜、氟譜、磷譜,液體一維氧譜,液體二維相關(guān)譜,一維氫譜壓水峰實(shí)驗(yàn),液體譜（氫譜）,溶劑峰壓制,DEPT/NOESY/ROESY/TOCSY/HMBC,QC/COSY,一維套譜1H+13C+DEPT135,二維套譜COSY+HSQC+HMBC,液體核磁超時(shí)測(cè)量費(fèi)用,液體一維雜核譜,液體一維碳譜 |
| 41 | X射線光電子能譜儀 | ESCALAB 250Xi | X射線光電子能譜-XPS,離子散射譜-ISS,俄歇電子能譜-Auger,紫外光電子能譜-UPS,反射電子能量損失譜-REELS,角分辨光電子能譜-ARXPS,深度剖析-Depth Profiling |
| 42 | 生物透射電子顯微鏡HT7700 | HT7700 | 顯微分析 |
| 43 | 單光子激光共聚焦成像系統(tǒng)(Z-760) | Zeiss 710 | 細(xì)胞或組織切片熒光顯微觀察 |
| 44 | 波長(zhǎng)可調(diào)諧激光器和光譜測(cè)量系統(tǒng)(DQ-NIM) | NIM | 納米光學(xué)成像 |
| 45 | 納米位移控制成像系統(tǒng)(DQ-NeaSNOM) | NeaSNOM | 納米光學(xué)成像,納米光學(xué)成像 |
| 46 | 多通道熱膜流場(chǎng)測(cè)量系統(tǒng) | StreamLine Pro | 多通道熱膜流場(chǎng) |
| 47 | 500兆固體核磁共振波譜儀 | AVANCE Ш HD 500MHz | 固體一維雜核譜,固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體二維相關(guān)譜,固體二維相關(guān)譜,固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體核磁超時(shí)測(cè)量費(fèi)用 |
| 48 | 電子探針顯微分析儀1720H | 1720H | EPMA表面分析,EPMA表面分析 |
| 49 | 開爾文探針測(cè)試裝置 | SKP5050 | 金相、組織、結(jié)構(gòu)分析 |
| 50 | 時(shí)間分辨、原位在線、高真空紅外光譜測(cè)試裝置 | Bruker V70v | 紅外光譜測(cè)試 |
| 51 | 可溯源計(jì)量型掃描電子顯微鏡(JC-Zeiss) | Merlin | 形貌成像及測(cè)量,形貌成像及測(cè)量 |
| 52 | 全自動(dòng)程序升溫化學(xué)吸附儀（AutochemII 2920) | Autochem II 2920 | 比表面積和孔隙度分析,氣體吸附 |
| 53 | 液氮制冷差示掃描量熱儀（DSC8500) | DSC 8500 | 固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測(cè)量,模量及玻璃化轉(zhuǎn)變測(cè)定,液體熱物性測(cè)量 |
| 54 | 生物芯片點(diǎn)樣儀（YYL-AD3210） | AD3210 | 生物樣品陣列點(diǎn)樣 |
| 55 | 高分辨掃描探針成像與綜合物性測(cè)量系統(tǒng)(QXH-STM/AFM) | Sustomized VT STM/AFM system | 表面形貌測(cè)量,微納米尺度物性測(cè)量 |
| 56 | X射線計(jì)算機(jī)斷層成像儀[CT/XRM] | Xradia 410 Versa | CT成像，內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析,CT成像，內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析 |
| 57 | 400MHz核磁共振譜儀(Avance III) | AVANCE III HD 400 | 核磁共振譜,核磁H譜,核磁常規(guī)碳譜,核磁超長(zhǎng)碳譜 |
| 58 | 尼康激光共聚焦-結(jié)構(gòu)照明超分辨熒光顯微鏡 | N-C2-SIM | 共聚焦成像,激光共聚焦掃描成像,結(jié)構(gòu)照明超分辨成像,結(jié)構(gòu)照明超分辨成像,數(shù)據(jù)處理 |
| 59 | 磁性測(cè)量系統(tǒng) | MPMS-3 | 磁性測(cè)量,磁性材料磁性能分析,磁性材料磁性能分析,磁性材料磁性能分析 |
| 60 | 圓盤離心式納米粒度分析儀（GGL-DC24000） | DC24000 UHR | 粒度分析 |
| 61 | 超聲波檢測(cè)儀 | SAM300 | 無損檢測(cè)兩固體焊接或粘接層中的缺陷 |
| 62 | 精密測(cè)角儀 | PrismMaster HR300 | 任意兩個(gè)面的夾角、元件塔差 |
| 63 | 光學(xué)輪廓儀 | GT-K | 表面粗糙度、臺(tái)階高度 |
| 64 | 雙光子共聚焦/熒光壽命成像顯微鏡 | ARsiMP-LSM-Kit-Legend Elite-USX | 單光子共聚焦掃描成像,單光子熒光壽命成像,飛秒雙光子共聚焦掃描成像 |
| 65 | 500MHz核磁共振波譜儀 | AVANCE III HD 500 | 化合物結(jié)構(gòu)分析和動(dòng)力學(xué)研究,500兆液體核磁測(cè)試,500兆液體核磁測(cè)試 |
| 66 | 寬溫域熱物性測(cè)量系統(tǒng) | TPS 2500S； Q2000 DSC；BTF-1200C-VP | 材料導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)量,材料導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)量 |
| 67 | 掃描電子顯微鏡（HITACHI S-4300） | S-4300 | 掃描成像 |
| 68 | 微操作低溫探針臺(tái)-半導(dǎo)體特征參數(shù)分析儀 | CRX-4K, 4200-SCS | 介電性能、光學(xué)性能,I-V, C-V, Pulsed I-V,直流I-V測(cè)試,超快Pulsed I-V測(cè)試,電容電壓C-V測(cè)試,光激發(fā)測(cè)試 |
| 69 | 柔性光電器件制備系統(tǒng)（WZX-MB200） | MB200MOD | 物相分離 |
| 70 | 原位光電器件測(cè)試系統(tǒng)（HT-CIMPS-4） | CIMPS-4 | 電化學(xué)性質(zhì)表征,光強(qiáng)度變化瞬態(tài)變化測(cè)試系統(tǒng),I-V，C-V測(cè)量,標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)電池測(cè)試,靜態(tài)、動(dòng)態(tài)光電傳輸函數(shù)測(cè)試,動(dòng)態(tài)透射/反射測(cè)量,光電化學(xué)發(fā)射測(cè)量,光譜分辨率透射/吸收光譜測(cè)量,電化學(xué)光電流譜測(cè)試 |
| 71 | 廣角/小角X射線散射結(jié)構(gòu)分析儀(WZX-SAXS/WAXS) | XEUSS | 物質(zhì)的散射和衍射,掠入射廣角X射線散射,掠入射廣角X射線散射高分辨,物質(zhì)的散射和衍射 |
| 72 | 圓二色吸收光譜儀(J-1500) | J-1500 | 圓二色光譜儀常溫測(cè)試（CD）,附件ORCD測(cè)試,附件DRCD測(cè)試,圓二色變溫測(cè)試 |
| 73 | DHR流變儀 | DHR-2 | 流體粘彈性行為測(cè)量 |
| 74 | 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)(O-50B) | OHMIKER-50B | 薄膜沉積,薄膜沉積 |
| 75 | 納米級(jí)力學(xué)性能測(cè)試試驗(yàn)機(jī)(Z-010) | Z010TE | 力學(xué)性能 |
| 76 | 多模式掃描探針顯微鏡（Bruker-M8） | Bruker Multimode-8 | 顯微分析,AFM形貌分析,peakforce力學(xué)測(cè)量,電磁學(xué)性能測(cè)量,AFM形貌分析 |
| 77 | 液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀 | Q-Exactive | 高分辨ESI質(zhì)譜,液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用,電噴霧（ESI）質(zhì)譜,高分辨ESI質(zhì)譜 |
| 78 | 9.4T高分辨FT-MS質(zhì)譜儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | Solarix 9.4T | 分子量測(cè)定 |
| 79 | 毛細(xì)管電泳色譜分析系統(tǒng) | CE7100 | 樣品分離 |
| 80 | 多功能勻膠烘膠機(jī) | CEE200CBX | 勻膠烘膠 |
| 81 | 顯微分光光度計(jì) | SP2560 Ni-U | 顯微分光光度計(jì) |
| 82 | 磁控濺射鍍膜儀 | QPrep 400-BASE | 薄膜沉積 |
| 83 | 掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 | NTEGRA Solaris，正置和倒置系統(tǒng) | 掃描近場(chǎng)顯微鏡 |
| 84 | 紫外光刻機(jī) | ABM/6/350/NUV/DCCD/M | 光刻 |
| 85 | 耐壓性能測(cè)試儀 | HY-SLB-10k-W-N2 | 耐壓性能測(cè)試 |
| 86 | 高壓吸水率測(cè)試儀 | KJYs150 | 高壓吸水率測(cè)試 |
| 87 | X射線衍射儀（物質(zhì)） | Empyrean | XRD,粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢,XRD晶體衍射分析,原位反應(yīng)（惰性氣體）,原位反應(yīng)（非惰性氣體）,Ka1系統(tǒng),粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢,XRD晶體衍射分析 |
| 88 | 電子束曝光系統(tǒng)(EBL) | Vistec EBPG 5000plus ES | 微納米結(jié)構(gòu)制作 |
| 89 | 超導(dǎo)傅立葉核磁共振波譜儀（納米區(qū)域中心） | AVANCE IIITM 500 MHz | 布魯克超導(dǎo)傅里葉核磁共振譜儀 |
| 90 | X射線衍射儀（物質(zhì)）（XRD） | Smartlab(9) | XRD晶體衍射分析 |
| 91 | X射線光電子能譜儀（物質(zhì)） | ESCALAB 250Xi | XPS 表面分析 |
| 92 | 場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡(QUANTA FEG 250) | QUANTA FEG 250 | 顯微分析 |
| 93 | 錒系材料表征分析平臺(tái)（微介孔物理吸附儀/離子阱質(zhì)譜儀/電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀） | ASAP2020HD88 | 比表面積和孔隙度分析,電噴霧（ESI）質(zhì)譜,ICP光譜分析 |
| 94 | 微尺度材料與結(jié)構(gòu)光學(xué)特性評(píng)價(jià)系統(tǒng) | 研制 | 近紅外吸收/透過光譜分析 |
| 95 | 雙波長(zhǎng)固體連續(xù)激光器 | EXLSR-1064-800-CDRH | 薄膜 |
| 96 | 寬波段可調(diào)諧飛秒激光器 | Mai Tai HP +Inspire Auto 100 | 薄膜,激光刻蝕 |
| 97 | 可調(diào)諧飛秒放大激光器 | Spitfire PRO-F1KXP | 薄膜,激光刻蝕 |
| 98 | 冷場(chǎng)發(fā)射雙球差校器透射電鏡（物質(zhì)區(qū)域中心） | JEM ARM200F | 顯微分析 |
| 99 | 高分辨－高低溫－原位測(cè)量X射線衍射儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | D8 Advance | X射線衍射分析 |
| 100 | 激光三維加工設(shè)備 | Photonic Professional | 曝光 |
| 101 | 粉末X射線衍射儀（納米區(qū)域中心） | D8 Advance | 粉末X射線衍射,單晶結(jié)構(gòu)分析,熱重分析 |
| 102 | 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡JEM-2100F（納米區(qū)域中心） | JEM-2100F | 透射電子顯微鏡JEM–2100F |
| 103 | 超快時(shí)間分辨X射線衍射系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 研制 | 超快XRD測(cè)試 |
| 104 | 納米薄膜表征平臺(tái)（紅外/熱重/紫外近紅外/I-V測(cè)試/AFM） | iN10-IZ10/Q50/Cary5000/Keithley 4200/Dimension Edge | 紅外光譜測(cè)試 |
| 105 | 6300電子束曝光設(shè)備 | JBX-6300FS | 曝光 |
| 106 | 聚集離子束/電子束雙束Helios 600I 系統(tǒng) | Helios 600I | 結(jié)構(gòu)加工 |
| 107 | X射線衍射儀P3（納米區(qū)域中心） | Empyrean | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢 |
| 108 | X射線衍射儀P2（納米區(qū)域中心） | Empyrean | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢 |
| 109 | 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（GGL-ICP-MS） | NexION 300X | 痕量元素定量分析,元素形態(tài)分析 |
| 110 | 核磁共振微成像譜儀 Bruker AVIII 500WB（納米區(qū)域中心） | AVANCE III 500WB | 擴(kuò)散系數(shù)核磁測(cè)定,500兆液體核磁測(cè)試,核磁微成像分析,擴(kuò)散序譜,液體二維NOESY譜,液體二維氫氫相關(guān)譜,液體二維氫氫全相關(guān)譜,液體二維變溫氫氫相關(guān)譜,液體氫碳直接相關(guān)譜,一維選擇性激發(fā)譜,液體一維雜核譜,液體一維碳譜,液體一維變溫氫譜,液體一維變溫碳譜,液體一維變溫雜核譜,液體氫碳遠(yuǎn)程相關(guān)譜,液體一維氫譜,核磁微成像分析 |
| 111 | 多功能光電子能譜儀（分子器件研究平臺(tái)） | AXIS ULTRA DLD | 多功能光電子能譜儀（分子器件平臺(tái)） |
| 112 | 掃描電子顯微鏡(HITACHI S-4800) | S-4800 | 掃描成像,顯微分析 |
| 113 | 小動(dòng)物核磁共振成像儀(BS-70) | BioSpec70/20USR | 小動(dòng)物核磁成像 |
| 114 | 冷凍組織切片機(jī)(CM-1950) | CM1950 | 低溫超薄切片 |
| 115 | 超薄切片機(jī)(UC-7) | UC7 | 低溫超薄切片,常溫超薄切片 |
| 116 | 單光子發(fā)射計(jì)算機(jī)斷層掃面(SPECT/CT) | Triumph X-SPECT/X-O CT | CT掃描,數(shù)據(jù)處理 |
| 117 | 多光束激光共聚焦成像系統(tǒng)(U-Vox) | UltraVIEW VoX | 細(xì)胞或組織切片熒光顯微觀察 |
| 118 | 多功能氣溶膠粒度分析儀(Cell) | whole body&nose only&cell culture | 基因表達(dá)的差異分析 |
| 119 | 120KV透射電子顯微鏡(Ht-7700) | HT7700 | 顯微分析 |
| 120 | 雙面對(duì)準(zhǔn)接觸式紫外光刻機(jī)(Ma-6) | MA6 | 微納米結(jié)構(gòu)制作 |
| 121 | 熱場(chǎng)發(fā)射高分辨掃描電鏡(N-430) | NOVA Nano SEM 430 +EDS | 表面形貌測(cè)量,元素成分分析,低真空掃描電鏡成像 |
| 122 | 高密度等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備(ICP-CVD) | SI500 | 薄膜沉積 |
| 123 | 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)（Lab-18） | Lab 18 | 薄膜沉積 |
| 124 | 金屬高密度等離子體刻蝕機(jī)(ICPRIE-500) | SENTECH PTSA ICP-RIE ETCHER SI 500 | 刻蝕 |
| 125 | 硅刻蝕高密度等離子體刻蝕機(jī)(ICPRIE-180) | Oxford Plasmalab System100 ICP180 | 刻蝕 |
| 126 | 圓二色光譜儀 | J-815 | 圓二色光譜變溫測(cè)試 |
| 127 | 宏量制備高效液相色譜（納米區(qū)域中心） | NEXT-800型+Buchyprep-M+非標(biāo)輔助設(shè)備 | 宏量制備高效液相色譜 |
| 128 | 連續(xù)式金屬富勒烯制備設(shè)備（納米區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 連續(xù)式金屬富勒烯制備設(shè)備 |
| 129 | 粒子成像測(cè)速系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | FlowMaster | 激光掃描共聚焦顯微鏡（LSCM）變溫測(cè)試,三維速度場(chǎng)測(cè)量,燃燒場(chǎng)流場(chǎng)測(cè)量,力學(xué)性能測(cè)試 |
| 130 | 多普勒粒度分析儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | Fiber PDA | 單點(diǎn)速度測(cè)量,粒度分析,燃燒場(chǎng)流場(chǎng)測(cè)量 |
| 131 | 三維激光多普勒測(cè)速儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | FlowLite | 粒度分析,燃燒場(chǎng)流場(chǎng)測(cè)量,單點(diǎn)速度測(cè)量,霧化顆粒度分析,單點(diǎn)三維速度測(cè)量 |
| 132 | 動(dòng)態(tài)光散射粒度儀（生化） | NANO ZS | 粒徑測(cè)定 |
| 133 | 超高效液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀（物質(zhì)） | UPLC H-Class/xevo G2-S TOF | 液質(zhì)聯(lián)用 |
| 134 | 石英晶體微天平 | Q-SENSE E4 | 生物分子相互作用 |
| 135 | 高分辨場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡 | JEM-2100F | 場(chǎng)發(fā)射透射電鏡顯微分析 |
| 136 | 多色高速流式細(xì)胞分選儀（生化） | MoFlo XDP | 流式細(xì)胞分選儀-細(xì)胞、顆粒、細(xì)胞分選 |
| 137 | 熱重-差熱分析儀（TG/DTA ）按個(gè)數(shù)收費(fèi) | TG-DTA6300 | 熱重分析,熱重紅外聯(lián)用 |
| 138 | 600MHz核磁共振（生化） | AVANCE III | 液體一維氫譜,液體一維碳譜,二維譜HSQC |
| 139 | X射線熒光光譜儀（多相XRF） | AXIOS | 粉末X熒光半定量分析,XRF制樣壓片 |
| 140 | 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡與能譜分析儀（多相顆粒分中心） | JSM-7001F+INCA X-MAX | 高真空能譜分析,表面形貌掃描,電鏡樣品噴金,電鏡樣品制備噴碳 |
| 141 | 熱重-質(zhì)譜聯(lián)用儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | 自開發(fā) | 熱重分析 |
| 142 | 掃描探針顯微鏡Bruker | Bruker Multimode 8 | 表面形貌測(cè)量 |
| 143 | 激光掃描共聚焦顯微鏡 | A1R MP | 激光共聚焦顯微鏡（CLSM)測(cè)試 |
| 144 | 激光掃描拉曼顯微鏡 | Raman-11 | 拉曼光譜分析 |
| 145 | X射線衍射儀(TZY-Xrd) | D/MAX-TTRIII(CBO) | 物相分析 |
| 146 | X射線光電子能譜儀（XPS） | ESCALAB250Xi | XPS表面分析 |
| 147 | 場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡微操縱加工系統(tǒng)(HD-Q-200) | Quanta 200 FEG | 低真空掃描電鏡成像,環(huán)境掃描條件成像,電子束曝光,高真空掃描電鏡成像,納米微操縱儀 |
| 148 | 多功能活體成像系統(tǒng)（生化） | KODAK In-Vivo Imaging System FX Pro | 多功能活體成像系統(tǒng) |
| 149 | GPU超級(jí)計(jì)算系統(tǒng) | Mole-8.5 | 超算分析-CPU,超算分析-GPU |
| 150 | 物理化學(xué)吸附儀（BET TPR比表面孔徑分布化學(xué)吸附） | NOVA3200e and iQ | 孔分布,比表面分析,比表面積和孔隙度分析,靜態(tài)化學(xué)吸附,固體的比表面積、孔徑分布 |
| 151 | Bruker原子力顯微鏡（生化） | FASTSCANBIO | 原子力樣品表面形貌掃描,樣品表面性質(zhì)分析 |
| 152 | 700MHz液體核磁共振譜儀（物質(zhì)） | AVANCE III | 固體一維氫譜,ROESY,一維選擇性激發(fā)譜,液體一維碳譜,DEPT90，DEPT135,液體一維19F 譜,一維套譜1H+13C+DEPT135,DOSY擴(kuò)散序譜,HSQC(HMQC),HMBC,雜核一維譜圖,DEPT90，DEPT135,液體一維氫譜,弛豫時(shí)間的測(cè)定,DEPT90，DEPT135,二維H-H COSY,TOCSY,前處理,液體一維雜核,雜核一維譜圖,DEPT135,一維氫譜壓水峰實(shí)驗(yàn),液體一維氧譜,一維磷譜,NOESY/ROESY,DEPT/NOESY/ROESY/TOCSY/HMBC |
| 153 | 液質(zhì)聯(lián)用LCMS/ESI/QTOF | UPLC-QTOF | 液-質(zhì)聯(lián)用分析,電噴霧質(zhì)譜分析,電噴霧質(zhì)譜分析,電噴霧質(zhì)譜分析,UPLC定量分析,UPLC定量分析,電噴霧質(zhì)譜分析,電噴霧（ESI）質(zhì)譜,質(zhì)譜解析/二級(jí)質(zhì)譜解析,電噴霧質(zhì)譜分子量檢測(cè),質(zhì)譜解析/二級(jí)質(zhì)譜解析,液質(zhì)聯(lián)用,UPLC定量分析 |
| 154 | 電感耦合等離子體光譜儀icp-oes（物質(zhì)） | iCAP 6300 | ICP光譜10元素分析,ICP光譜7元素分析,ICP光譜13元素以上分析,ICP光譜11元素分析,ICP光譜12元素分析,ICP光譜9元素分析,ICP光譜8元素分析,ICP光譜1元素分析,ICP光譜2元素分析,ICP光譜3元素分析,ICP光譜4元素分析,icp-oes數(shù)據(jù)分析,icp光譜分析標(biāo)液,ICP光譜6元素分析,ICP光譜5元素分析 |
| 155 | 液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（納米區(qū)域平臺(tái)) | Bruker micrOTOFQ-II | 液質(zhì)聯(lián)用 |
| 156 | 生物型原子力顯微鏡（納米區(qū)域中心） | Agilent 5500 | 磁性材料成像,表面形貌測(cè)試,活細(xì)胞表面形貌,液體環(huán)境中成像,分子識(shí)別 |
| 157 | 熒光分光光度計(jì)（納米區(qū)域中心） | RF-5301PC | 熒光光譜測(cè)試 |
| 158 | 分子熒光光譜儀 Spectrofluometer（納米區(qū)域中心） | Fluorolog-3 FL3-21 | 定量分析，構(gòu)象變化 |
| 159 | 等電聚焦電泳儀（納米區(qū)域中心） | PROTEAN IEF cell | 蛋白等電點(diǎn)及/或分子量的差異分析 |
| 160 | 離子束刻蝕系統(tǒng) | LKJ-3D-150 | 金相、組織、結(jié)構(gòu)分析 |
| 161 | 光譜橢偏儀(SE-850) | SE 850 DUV | 薄膜光學(xué)參數(shù)測(cè)量 |
| 162 | Ｘ射線微米CT（物質(zhì)區(qū)域中心） | Mirco-CT200 | CT成像，內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析 |
| 163 | 氦液化裝置（物質(zhì)區(qū)域中心） | L70 | ? |
| 164 | 礦物解離分析儀（MLA）（物質(zhì)區(qū)域中心） | FEI MLA 250 | 鑲嵌,MLA測(cè)試,電鏡低真空掃描模式,電鏡高真空掃描模式,電鏡環(huán)境掃描模式,能譜分析,低真空能譜分析,磨拋,高真空能譜分析,電鏡樣品噴金,電鏡樣品制備噴碳,噴金 |
| 165 | X熒光光譜儀XRF（物質(zhì)） | AXIOS | 粉末X熒光半定量分析，固體X熒光半定量分析,XRF樣品制備壓片，XRF液體樣品分析，XRF制樣壓片 |
| 166 | 激光共聚焦顯微鏡[Leica] | Leica TCS SP 5 | 樣品表面原子力成像,樣品表面形貌掃描,激光共聚焦顯微鏡觀察,原子力顯微鏡樣品表面觀察,樣品表面原子力成像,激光共聚焦顯微鏡觀察 |
| 167 | 細(xì)胞分析系統(tǒng)（流式細(xì)胞儀） | CyAn ADP | 流式細(xì)胞儀熒光檢測(cè)，流式細(xì)胞儀-細(xì)胞分選 |
| 168 | 冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 | JSM-6700F | 樣品斷面離子拋光,樣品表面形貌掃描,樣品表面形貌掃描,掃描電鏡樣品前期處理,樣品斷面離子拋光 |
| 169 | 圓二色光譜儀 | JASCO J-810 | 蛋白質(zhì)二級(jí)結(jié)構(gòu)分析 |
| 170 | 日立S-4800掃描電子顯微鏡（納米區(qū)域中心） | s-4800 | 樣品表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 171 | 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(納米區(qū)域中心) | System100 PECVD System | 薄膜沉積 |
| 172 | UltimaIV型粉末X射線衍射儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | UltimaIV | 晶體結(jié)構(gòu) |
| 173 | 裂解器、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（納米區(qū)域中心） | GCMS-QP2010 | 氣相色譜質(zhì)譜儀, 裂解器 |
| 174 | 差示掃描量熱儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | DSC6220 | 吸放熱分析 |
| 175 | 小動(dòng)物正電子發(fā)射斷層掃描儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | Eplus-166 | 核醫(yī)學(xué)影像 |
| 176 | 生物大分子系統(tǒng)1W2B(物質(zhì)區(qū)域中心) | 非標(biāo) | 晶體形態(tài)的生物大分子 |
| 177 | 生物大分子系統(tǒng)3W1A（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 晶體結(jié)構(gòu) |
| 178 | 同步熱分析儀Q600（物質(zhì)區(qū)域中心） | Q600 | 同步熱分析儀Q600,同步熱分析儀Q600,同步熱分析儀Q600 |
| 179 | 高溫力學(xué)性能測(cè)試儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | instron5567 | 力學(xué)性能測(cè)試 |
| 180 | 高效毛細(xì)管電泳儀（納米區(qū)域中心） | 1229 | 光活性化合物e.e.值的測(cè)定,物質(zhì)含量 |
| 181 | 微透析取樣（納米區(qū)域中心） | ＢＡＳ | 產(chǎn)品性能分析,溶解待測(cè)樣品,自由基電化學(xué)檢測(cè) |
| 182 | Autolab電化學(xué)工作站（納米區(qū)域中心） | ＰＧＳＴＡ３０２ | 電化學(xué)工作站分析項(xiàng)目,電化學(xué)工作站分析項(xiàng)目 |
| 183 | 電子束蒸發(fā)鍍膜儀(Boc-500) | BOC-500 | 薄膜沉積,薄膜 |
| 184 | 液質(zhì)聯(lián)用儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | LCMS2010 | ESI直接進(jìn)樣,電噴霧（ESI）質(zhì)譜,液質(zhì)聯(lián)用 |
| 185 | LIGA和光刻系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | X射線及紫外光曝光 |
| 186 | X射線熒光分析系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 非標(biāo) | 4W1B |
| 187 | X射線漫散射線系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 非標(biāo) | 1W1A漫散射實(shí)驗(yàn)站 |
| 188 | 高壓Raman系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 高壓拉曼實(shí)驗(yàn)方法 |
| 189 | 高壓X射線衍射系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心）(2014年修購(gòu)） | 非標(biāo) | 高壓衍射分析方法 |
| 190 | 軟X射線光學(xué)系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | BSRF-4B7B-RM | 平面鏡標(biāo)定,XRD響應(yīng)標(biāo)定,樣品內(nèi)部形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析,濾片透過率標(biāo)定,樣品表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 191 | 中能X射線譜學(xué)系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 研制 | XRD響應(yīng)標(biāo)定,樣品內(nèi)部形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析,濾片透過率標(biāo)定,樣品表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 192 | 康塔全自動(dòng)物理化學(xué)吸附儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | AUTOSORB-1-C-TCD | 靜態(tài)化學(xué)吸附,動(dòng)態(tài)化學(xué)吸附,BET比表面積,固體的比表面積、孔徑分布,微孔分析 |
| 193 | 常規(guī)正電子湮沒多參數(shù)符合測(cè)量系統(tǒng)CDB（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 樣品內(nèi)部形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 194 | 常規(guī)正電子湮沒壽命譜儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 樣品內(nèi)部形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 195 | 慢正電子束流裝置（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 多普勒展寬譜,多普勒展寬譜,薄膜,符合多普勒 |
| 196 | 光散射系列 | Dybapro NanoStar；OPTILAB rEX; HELEOSII | 動(dòng)態(tài)光散射儀 |
| 197 | 反應(yīng)等離子體刻蝕機(jī)（RIE-200） | ETCHLAB 200 | 刻蝕 |
| 198 | 單面對(duì)準(zhǔn)紫外光刻機(jī)(Mjb-4) | MJB4 | 微納米結(jié)構(gòu)制作, 納米光學(xué)成像 |
| 199 | 短周期渦輪實(shí)驗(yàn)臺(tái)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 自研制 | 力學(xué)性能測(cè)試 |
| 200 | 全光譜激光掃描共聚焦顯微鏡 | Nikon c1 Si | 大尺寸工件任意斷層、透視成像,激光共聚焦掃描成像 |
| 201 | 比表面及孔隙度分析儀 | Quadrasorb SI-MP | 固體的比表面積、孔徑分布 |
| 202 | 納米光子學(xué)超細(xì)微加工系統(tǒng) | 研制 | 刻蝕 |
| 203 | 材料低溫?zé)嵛镄詼y(cè)量裝置 | 研制 | 熱輸運(yùn)測(cè)量（熱導(dǎo)率、seebeck系數(shù)、品質(zhì)因子） |
| 204 | 0.65K~24.5561K 溫度計(jì)標(biāo)準(zhǔn)裝置 | LHE3 | 溫度試驗(yàn) |
| 205 | 13.8033K~273.16K溫度計(jì)標(biāo)準(zhǔn)裝置 | LHE4 | 溫度試驗(yàn) |
| 206 | 低溫環(huán)境模擬測(cè)試裝置 | 研制 | 環(huán)境模擬,環(huán)境模擬 |
| 207 | 顯微共焦激光拉曼光譜儀 | inVia-Reflex | 拉曼光譜分析 |
| 208 | 紫外-可見-近紅外分光光度計(jì) | Cary 5000 | 紫外可見近紅外分析 |
| 209 | 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 | Varian 710－OES | ICP光譜分析 |
| 210 | 傅里葉變換紅外光譜儀 | Excalibur 3100 | 紅外光譜測(cè)試，中紅外單次衰減全反射測(cè)試(ATR) |
| 211 | 變溫電子順磁共振波譜儀 | E 500 | 自由基電化學(xué)檢測(cè),電子自旋順磁檢測(cè) |
| 212 | 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡-6700F（納米區(qū)域中心） | JSM-6700F | 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 ,樣品表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 213 | 酶標(biāo)儀（納米區(qū)域中心） | SpectraMax M5 | 酶聯(lián)免疫吸附檢測(cè),紫外可見光譜,紫外可見光吸收/透過分析,熒光光譜測(cè)試 |
| 214 | 冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（納米區(qū)域中心） | JEOL JSM-6701F | 表面形貌測(cè)量,元素成分分析,顯微分析,顯微分析 |
| 215 | 超導(dǎo)核磁共振波譜儀 | Avance-400 | 液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關(guān)譜,液體二維ROESY譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關(guān)譜,液體二維ROESY譜 |
| 216 | 飛秒摻鈦藍(lán)寶石脈沖激光器 | SP-5W | LD光譜測(cè)試,近紅外吸收/透過光譜分析,紅外光譜測(cè)試,紫外可見光吸收/透過分析,熒光光譜測(cè)試 |
| 217 | “廊坊園區(qū)”-時(shí)間分辨熒光光譜儀(熒光壽命) | F900 | 熒光光譜測(cè)試 |
| 218 | “廊坊園區(qū)”-激光閃光光解光譜儀(瞬態(tài)吸收) | LP920 | 紫外可見光吸收/透過分析 |
| 219 | 透射電子顯微鏡(JEM-2100) | JEM-2100 | 顯微分析,掃描成像 |
| 220 | 激光解吸飛行時(shí)間質(zhì)譜儀(Microflex) | Microflex | 飛行時(shí)間質(zhì)譜 |
| 221 | 高能所試驗(yàn)束裝置 | IHEP-BTF | ? |
| 222 | 真空紫外實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 研制 | 熒光光譜測(cè)試,園二色光譜儀常溫測(cè)試(CD),反射光譜,透射光譜 |
| 223 | 225KV?。厣渚€顯微CT(物質(zhì)區(qū)域中心) | 225-3Ｄ-ｕＣＴ | CT三維重構(gòu),CT缺陷分析,CT逆向工程分析,CT成像，內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析,CT尺寸測(cè)量 |
| 224 | 高能工業(yè)CT無損檢測(cè)系統(tǒng)(GY-6-ACT)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 研制 | CT缺陷分析,CT尺寸測(cè)量,CT逆向工程分析,CT三維重構(gòu),CT結(jié)構(gòu)分析 |
| 225 | 450KV工業(yè)CT無損檢測(cè)系統(tǒng)(GY-450-ICT)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 研制 | CT尺寸測(cè)量,CT逆向工程分析,CT缺陷分析,CT三維重構(gòu),CT結(jié)構(gòu)分析 |
| 226 | 微型流化床反應(yīng)動(dòng)力學(xué)分析儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | MFBRA | 熱分析（動(dòng)力學(xué)分析） |
| 227 | 過程質(zhì)譜儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | PROLINE | 氣體成分分析,氣體成分分析 |
| 228 | 納米粒度與Zeta電位分析儀(物質(zhì)) | DelsaNano C | 粒度,zeta電位,納米粒度或Zeta電位,zeta電位 |
| 229 | 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（物質(zhì)） | Optima 5300DV | ICP光譜3-5元素分析,ICP光譜7元素分析,ICP光譜10元素分析,ICP光譜12元素分析,ICP光譜全元素分析,ICP光譜6元素分析,ICP光譜8元素分析,ICP光譜11元素分析,ICP光譜9元素分析,ICP光譜13元素以上分析,ICP光譜1-2元素分析,ICP光譜2元素分析,ICP光譜13元素分析,ICP光譜14元素分析,ICP光譜15元素以上分析,ICP光譜1元素分析,ICP光譜3元素分析,ICP光譜4元素分析,ICP光譜5元素分析,ICP光譜15元素分析 |
| 230 | X射線微納米成像系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 非標(biāo) | 微納米三維成像 |
| 231 | 光電子能譜系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 非標(biāo) | XPS表面分析 |
| 232 | X射線吸收譜學(xué)系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 非標(biāo) | 束線狀態(tài)維護(hù),樣品內(nèi)部形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析 |
| 233 | 小角X射線散射系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 研制 | 同步輻射小角散射 |
| 234 | X射線衍射系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | 非標(biāo) | 結(jié)構(gòu)解析 |
| 235 | 六硼化鑭透射電子顯微鏡(納米區(qū)域中心) | JEM-2100(UHR) | 顯微分析,晶體結(jié)構(gòu),元素成分分析 |
| 236 | 物理吸附儀-BET-比表面 | AUTOSORB-IQ-XR-C | BET比表面積,比表面分析,介孔分析,微孔分析,比表面分析 |
| 237 | 綜合熱分析儀(物質(zhì)) | STA449C | 熱重分析,吸放熱分析,熱重紅外聯(lián)用,TGA/DSC小于900度分析 |
| 238 | X射線衍射儀（顆粒） | X’Pert PRO MPD 大廈124 | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢,XRD晶體衍射分析 |
| 239 | 激光粒度分析儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | Mastersizer 2000 | 粒度分析 |
| 240 | 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)-LMF | Peva-600E | 薄膜沉積 |
| 241 | 多組份氣體分析儀（物質(zhì)區(qū)域中心） | DX4000 | 氣體成分分析,煙氣分析 |
| 242 | 諧波法微尺度材料導(dǎo)熱測(cè)量?jī)x（物質(zhì)區(qū)域中心） | 自研制 | 液體熱物性測(cè)量,固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測(cè)量,TGA/DSC分析,塊體材料熱物性測(cè)量,液體、粉體熱物性測(cè)量,薄膜熱物性測(cè)量,纖維熱物性測(cè)量 |
| 243 | 飛秒激光熱反射薄膜導(dǎo)熱測(cè)量?jī)x（物質(zhì)區(qū)域中心） | 自研制 | 飛秒級(jí)超快熱過程測(cè)量,液體熱導(dǎo)率測(cè)量,固體熱導(dǎo)率測(cè)量,界面熱阻/界面熱導(dǎo)測(cè)量 |
| 244 | X射線衍射儀 | D8 focus | 晶體結(jié)構(gòu) |
| 245 | 物理性能測(cè)量系統(tǒng)（PPMS-9） | PPMS-9 | 直流磁化強(qiáng)度(VSM測(cè)量),熱輸運(yùn)測(cè)量-2端法,直流電阻測(cè)量,交流磁化率,比熱測(cè)量,高溫VSM測(cè)量2,交流磁化率2,交流電輸運(yùn)測(cè)量 |
| 246 | 氣相色譜/高分辨飛行時(shí)間質(zhì)譜聯(lián)用儀（GCT Premier ） | GCT Premier | 高分辨EI,飛行時(shí)間質(zhì)譜,氣質(zhì)聯(lián)用,低分辨EI質(zhì)譜, 高分辨質(zhì)譜 |
| 247 | 透射電子顯微鏡(JEM-2100F) | JEM-2100F | 顯微分析 |
| 248 | 單色儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | SpectraPro-500i | 近紅外吸收/透過光譜分析,紫外可見光吸收/透過分析,紫外可見光吸收/透過分析, |
| 249 | 連續(xù)波鈦寶石激光器(物質(zhì)區(qū)域中心) | 3900S | 薄膜,晶體結(jié)構(gòu),熒光光譜測(cè)試 |
| 250 | 高分辨透射電子顯微鏡(物質(zhì)區(qū)域中心) | JEM2100PLUS | 晶體結(jié)構(gòu) |
| 251 | 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(物質(zhì)區(qū)域中心) | XL30 S－FEG | 晶體結(jié)構(gòu) |
| 252 | 飛秒摻鈦寶石激光器(物質(zhì)區(qū)域中心) | TSA-10 | 薄膜,飛秒量級(jí)超快熱過程測(cè)量 |
| 253 | 皮秒Nd:YAG脈沖激光器(物質(zhì)區(qū)域中心) | PL2143B | 晶體結(jié)構(gòu),熒光光譜測(cè)試 |
| 254 | 磁性測(cè)量系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | MPMS XL-7 | 低溫物性分析,磁性材料磁性能分析,室溫介電常數(shù)、磁導(dǎo)率及損耗 |
| 255 | 18KW轉(zhuǎn)靶X射線衍射儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | M18XHF | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢 |
| 256 | X射線衍射儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | PDPW3040/60 | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢 |
| 257 | C樓電感耦合等離子體刻蝕系統(tǒng) | Plasmalab System 100 ICP180 | 刻蝕 |
| 258 | 真空鍍膜機(jī) | RZF400 | 薄膜沉積 |
| 259 | 原子層沉積系統(tǒng) | Savannah-100 | 薄膜沉積 |
| 260 | 臺(tái)階儀 | Dektak XT | 表面形貌測(cè)量 |
| 261 | C樓反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) | Plasmalab 80 plus | 刻蝕 |
| 262 | 亞微米紫外光刻掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) | MA6 | 曝光 |
| 263 | 聚焦離子束DB235系統(tǒng) | Strata DB 235 | 結(jié)構(gòu)加工 |
| 264 | 電子束曝光系統(tǒng) | Raith 150 | 曝光 |
| 265 | SPEX-1403雙光柵拉曼光譜儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | SPEX-1403 | 拉曼光譜分析, 熒光光譜測(cè)試 |
| 266 | TU-1901雙光束紫外可見分光光度計(jì)(物質(zhì)區(qū)域中心) | TU-1901 | 紫外可見光吸收/透過分析 |
| 267 | IRIS Intrepid II全譜直讀等離子體光譜儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | IRIS Intrepid II | ICP光譜分析 |
| 268 | FTS-60V雙真空傅里葉變換紅外(FT-IR)光譜儀系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | FTS-60V | 紅外光譜測(cè)試 |
| 269 | HR-800高分辨單級(jí)拉曼光譜儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | HR-800 | 熒光光譜測(cè)試, 拉曼光譜分析 |
| 270 | JY-T64000模塊式三級(jí)拉曼光譜儀系統(tǒng)(物質(zhì)區(qū)域中心) | JY-T64000 | 拉曼光譜分析, 比熱測(cè)量 |
| 271 | 氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用(納米區(qū)域中心) | SATURN2000 | 氣質(zhì)聯(lián)用, 有機(jī)化合物定量分析 |
| 272 | 激光共聚焦(confocal)顯微鏡細(xì)胞實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)（尼康熒光顯微鏡+ UltraVIEW VoX共聚焦單元）(納米區(qū)域中心) | Nikon- Ti + UltraVIEW VoX | 顯微分析,激光共聚焦顯微鏡（CLSM)測(cè)試,ROI圖象區(qū)域分析,顯微分析 |
| 273 | 高效液相- 電感耦合等離子質(zhì)譜體聯(lián)用儀(納米區(qū)域中心) | Thermo-X7 | 化學(xué)元素定量分析 |
| 274 | 碳納米材料合成真空裝置(納米區(qū)域中心) | 加工 | 材料合成 |
| 275 | 酶標(biāo)儀(納米區(qū)域中心) | SpectraMax M2 | 酶聯(lián)免疫吸附檢測(cè) |
| 276 | 熒光倒置顯微鏡(納米區(qū)域中心) | Olypus IX71 | 顯微分析 |
| 277 | 激光解析飛行時(shí)間質(zhì)譜(納米區(qū)域中心) | UltrafleXtreme | 分子量測(cè)定 |
| 278 | 分選型流式細(xì)胞儀(納米區(qū)域中心) | ARIAIII | 電泳條帶分析 |
| 279 | 高效液相色譜儀平臺(tái)(納米區(qū)域中心) | LC-9104 | 富勒烯分離 |
| 280 | 傅立葉紅外光譜儀6700（物質(zhì)區(qū)域中心） | 6700FTIR | 紅外光譜測(cè)試, 紅外光譜測(cè)試 |
| 281 | 納米粒度和ZETA電位分析儀（納米區(qū)域中心） | Zetasizer Nano ZS ZEN3600 | 納米粒度或Zeta電位, 激光光散射儀 |
| 282 | 鎢燈絲掃描電子顯微鏡（S-3400) | Hitachi S－3400N | 表面形貌測(cè)量 |
| 283 | 機(jī)械制冷差示掃描量熱儀（Diamond DSC) | Diamond DSC | 模量及玻璃化轉(zhuǎn)變測(cè)定,液體熱物性測(cè)量,固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測(cè)量,吸放熱分析 |
| 284 | 單站全自動(dòng)微孔比表面積和孔隙度分析儀(Asap-2020 | ASAP2020（M+C) | 固體的比表面積、孔徑分布 |
| 285 | 差熱/熱重綜合分析儀（TG/DTA） | Diamond TG/DTA | 固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測(cè)量,液體熱物性測(cè)量,熱重分析,吸放熱分析 |
| 286 | 納米粒度及Zeta電位分析儀(NZS) | Zetasizer? Nano ZS | 納米粒度或Zeta電位， 粒度分析 |
| 287 | 多模式掃描探針顯微鏡（M-Pico） | Multimode | AFM形貌分析, 形貌成像及測(cè)量 |
| 288 | 六硼化鑭透射電子顯微鏡（T-20) | Tecnai G2 20 S-TWIN | 顯微分析 |
| 289 | 傅立葉變換紅外光譜儀(S-One) | Spectrum One | 紫外可見光吸收/透過分析，紅外光譜測(cè)試，紅外光譜通用附件，紅外光譜通用附件，衰減全反射附件-HATR |
| 290 | 紫外/可見/近紅外分光光度計(jì)(Lambda-950) | Lambda 950 | 紫外可見近紅外分析，紫外光譜通用附件，紫外積分球測(cè)漫反射附件 |
| 291 | 半導(dǎo)體特性測(cè)試系統(tǒng)（Scs-4200） | 4200-SCS | I-V，C-V測(cè)量，IV+低溫探針臺(tái) |
| 292 | 激光拉曼光譜儀(Renishaw) | Renishaw inVia plus | 拉曼光譜分析 |
| 293 | 掃描探針顯微鏡AFM2（納米區(qū)域中心） | Ⅲa | 樣品表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)分析，掃描探針顯微鏡AFM |
| 294 | 電子順磁共振儀（納米區(qū)域中心） | ESP-300 | 電子自旋順磁檢測(cè), 自由基電化學(xué)檢測(cè) |
| 295 | 液體核磁共振波譜儀 Avance300（納米區(qū)域中心） | Avance300 | 電子自旋順磁檢測(cè),液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關(guān)譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關(guān)譜 |
| 296 | 磁控濺射鍍膜儀(Acs-4000) | ACS-4000-C4 | 薄膜 |
| 297 | 單晶衍射儀固定靶（單晶-2物質(zhì)區(qū)域中心） | ST Saturn724+ | 單晶結(jié)構(gòu)分析 |
| 298 | 微波介電常數(shù)與磁導(dǎo)率測(cè)試系統(tǒng)（物質(zhì)區(qū)域中心） | 主機(jī)E8363B 40M-40GHz | 室溫介電常數(shù)、磁導(dǎo)率及損耗,高溫介電常數(shù)、磁導(dǎo)率及損耗 |
| 299 | 掃描電子/聚焦離子束雙束系統(tǒng)(SEM/FIB) | Nova200 NanoLab | 聚焦離子束加工,表面形貌測(cè)量,掃描電鏡表面形貌測(cè)量,電子束曝光 |
| 300 | 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡(F-20) | Tecnai G2 F20 U-TWIN | 晶體結(jié)構(gòu)，顯微分析，元素成分分析 |
| 301 | 冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡（S-4800) | Hitachi S4800＋EDS | 表面形貌測(cè)量，元素成分分析，形貌成像及測(cè)量 |
| 302 | 高分辨雙聚焦質(zhì)譜系統(tǒng)(FD－MS)（物質(zhì)區(qū)域中心） | DFS | 分子量測(cè)定，高分辨EI，場(chǎng)解析質(zhì)譜 |
| 303 | 液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀(納米區(qū)域中心) | Q-TOF | 電噴霧（ESI）質(zhì)譜，液質(zhì)聯(lián)用 |
| 304 | 氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | QP2010 | 氣質(zhì)聯(lián)用，低分辨EI質(zhì)譜 |
| 305 | 氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀(納米區(qū)域中心) | GCT | 低分辨EI質(zhì)譜，高分辨質(zhì)譜 |
| 306 | 飛行時(shí)間質(zhì)譜儀(納米區(qū)域中心) | Autoflex III | 飛行時(shí)間質(zhì)譜，MALDI-TOF質(zhì)譜測(cè)試 |
| 307 | 凝膠滲透色譜儀(THF) （物質(zhì)區(qū)域中心） | 1515 | GPC凝膠滲透色譜儀,凝膠滲透色譜（THF）,分子量測(cè)定 |
| 308 | 元素分析儀(物質(zhì)區(qū)域中心) | Flash EA 1112 | S元素含量測(cè)定，Cl(Br)元素含量測(cè)定，粘稠狀樣品CHN元素分析，固體樣品CHN元素分析，O元素分析測(cè)定 |
| 309 | 透射電子顯微鏡JEM-1011(物質(zhì)區(qū)域中心) | JEM-1011 | 透射電子顯微鏡JEM-1011 |
| 310 | 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡S-4800(物質(zhì)區(qū)域中心) | S-4800 | 掃描電子顯微鏡S-4800 |
| 311 | 透射電子顯微鏡JEM－2010(納米區(qū)域中心) | JEM－2010 | 透射電子顯微鏡JEM-2011 |
| 312 | 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡S-4300(納米區(qū)域中心) | S-4300 | 掃描電子顯微鏡S-4300 |
| 313 | 激光共聚焦顯微鏡(物質(zhì)區(qū)域中心) | OLYMPUS FV1000-IX81 | 激光掃描共聚焦顯微鏡（CLSM）常溫測(cè)試,熒光顯微CCD測(cè)試 |
| 314 | 圓二色光譜儀(CD)(納米區(qū)域中心) | J-815 | 圓二色光譜儀常溫測(cè)試(CD),圓二色光譜常溫測(cè)試 |
| 315 | 傅立葉紅外光譜儀(納米區(qū)域中心) | TENSOR-27 | 中紅外單次衰減全反射測(cè)試(ATR),紅外光譜測(cè)試,中紅外漫反射測(cè)試,中紅外漫反射測(cè)試,紅外光譜測(cè)試 |
| 316 | 納米壓印機(jī)(Hex-1) | HEX-01 | 微納米結(jié)構(gòu)制作 |
| 317 | 熒光光譜儀（物質(zhì)區(qū)域中心) | F-4500 | 熒光光譜測(cè)試 |
| 318 | 光電子能譜儀(納米區(qū)域中心) | ESCALab220i-XL | XPS表面分析,XPS表面分析 |
| 319 | 單晶衍射儀007HF（單晶-3物質(zhì)區(qū)域中心） | MM007HF Saturn724+ | 單晶結(jié)構(gòu)分析 |
| 320 | 液體核磁共振波譜儀 DMX300(物質(zhì)區(qū)域中心) | Bruker DMX300 | 液體一維升溫碳譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體一維升溫雜核,液體一維升溫氫譜,常規(guī)核磁測(cè)試,升溫核磁測(cè)試,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體一維氫譜 |
| 321 | 液體核磁共振波譜儀 AVANCE 400(物質(zhì)區(qū)域中心) | Bruker Avance 400 | 液體一維碳譜,液體一維19F 譜,液體一維氫譜 |
| 322 | X射線衍射裝置P1（物質(zhì)區(qū)域中心） | D/max 2500 | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫(kù)查詢 |
| 323 | 液體核磁共振波譜儀 AVANCE 600（納米區(qū)域中心) | Bruker AVANCE 600 | 液體二維低溫氫氫相關(guān)譜,液體一維低溫氫譜,液體一維低溫碳譜和雜核譜,液體一維19F 譜,擴(kuò)散序譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體二維氫氫全相關(guān)譜,液體二維NOESY譜,液體二維ROESY譜,液體氫碳直接相關(guān)譜,液體氫碳遠(yuǎn)程相關(guān)譜,一維選擇性激發(fā)譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體二維氫氫相關(guān)譜,液體二維氫氫全相關(guān)譜,液體二維NOESY譜,液體二維ROESY譜,液體氫碳直接相關(guān)譜,液體氫碳遠(yuǎn)程相關(guān)譜,一維選擇性激發(fā)譜,擴(kuò)散序譜 |
| 324 | 固體核磁共振波譜儀 AVANCE III 400(物質(zhì)區(qū)域中心) | AVANCE III 400 | 固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體一維碳譜,固體一維雜核譜,固體一維雜核譜,固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體一維雜核譜 |