About company
中國科學院北京物質和納米科學
大型儀器區(qū)域中心
管理章程
第一條 北京納米科學大型儀器區(qū)域中心是利用北京地區(qū)納米科技大型儀器比較集中的優(yōu)勢，為促進納米科技大型儀器的共享，提高大型儀器的使用效率和使用水平，從而促進我國納米科技的發(fā)展而成立的區(qū)域性的技術支撐條件合作組織。
第二條 北京納米科學大型儀器區(qū)域中心的目標是建成面向全國的、具有國際先進水平的、開放的納米科技支撐平臺。
第三條 北京納米科學大型儀器區(qū)域中心由中國科學院批準并支持建設，由國家納米科學中心牽頭組織，吸納北京地區(qū)其它具有納米科技大型儀器的單位參加。
第四條 北京納米科學大型儀器區(qū)域中心建設應充分利用現(xiàn)有的設備與人才基礎，避免重復建設，充分發(fā)揮各單位的人才優(yōu)勢、資源優(yōu)勢，體現(xiàn)合作、開放的方針。
第五條 北京納米科學大型儀器區(qū)域中心成員單位的用戶使用其它成員單位提供的開放共享的大型儀器設備時享有與該單位內部用戶平等的權利。
第六條 北京納米科學大型儀器區(qū)域中心成員單位應能夠提供納米科技研發(fā)的重要大型儀器設備供其它成員單位和社會各界開放共享，并保證其它成員單位的用戶在使用這些設備時享有和本單位內部用戶同等的權利。
第七條 申請參加北京納米科學大型儀器區(qū)域中心的基本條件：
1、參加單位愿意承擔作為這一合作組織成員相應的義務；
2、參加單位提供的供開放共享的大型儀器設備應具有相應的專業(yè)技術支撐人員；
3. 供開放共享的大型儀器設備所在的實驗室應具有權威機構認可的或經(jīng)由其它方式證明了技術能力和管理水平，表明該實驗室能夠持續(xù)地提供可靠的、高質量的技術服務。
第八條 申請參加北京納米科學大型儀器區(qū)域中心的單位應填寫《北京納米科學大型儀器區(qū)域中心入網(wǎng)申請表》，由區(qū)域中心管理委員會組織專家進行評審。評審通過后，報指導委員會審批，審批通過后由辦公室通知申請單位；
第九條 根據(jù)納米科學發(fā)展的需要以及成員單位提供的供開放共享的大型儀器的實際運行狀況，領導小組可取消成員單位的資格或增加新的成員單位。
第十條 成員單位提供的供開放共享的大型儀器應有明確的、合理的開放共享管理辦法。成員單位制定的開放共享管理辦法經(jīng)管理委員會批準后將通過網(wǎng)站向國內（外）用戶公示。
第十一條 用戶如發(fā)現(xiàn)成員單位沒有執(zhí)行管理委員會批準的開放共享管理辦法，或對成員單位的技術服務質量有意見，可以向區(qū)域中心辦公室反應。
第十二條 領導小組對成員單位提供的大型儀器的管理運行和開放共享情況進行年度考核，考核辦法由領導小組制定。考核結果報主管部門備案。
第十三條 對于未能盡到成員單位義務，或提供的開放共享的大型儀器管理運行不良的成員單位，視情況將分別給予警告、暫停、取消其成員單位資格等處罰。
第十四條 本辦法由北京納米科學大型儀器區(qū)域中心管理委員會負責解釋。
大型儀器列表
| 編號 | 儀器名稱 | 儀器型號 | 儀器用途 |
| 1 | 細胞超微顆粒分析系統(tǒng)（流式細胞儀） | CytoFLEX LX | 流式細胞儀熒光檢測,流式細胞儀熒光檢測,流式細胞儀-細胞分選 |
| 2 | 實時熒光定量PCR儀（熒光實時定量PCR儀） | CFX96 | 基因表達研究、轉基因食品檢測、病原體檢測、疾病相關的等位基因點突變檢測和SNP檢測等實驗的分析 |
| 3 | 凝膠色譜儀GPC（凝膠滲透色譜儀） | 安捷倫 1260 | 分子量測定（流動相六氟異丙醇）,分子量測定（流動相水、DMSO、DMF、氯仿等） |
| 4 | 串聯(lián)氣質聯(lián)用儀（氣相色譜質譜聯(lián)用儀） | GCMS-8040 | 氣質分析，成分及其含量分析 |
| 5 | 元素分析儀 | Various MACRO | 碳、氫、氮、硫元素含量,有機碳含量 |
| 6 | 非損傷掃描電極測試儀（非損傷微測系統(tǒng)） | NMT 150-YG | 樣品離子/分子流速數(shù)據(jù) |
| 7 | 生物大分子互相作用分析儀 | Octet K2 | 互作動力學常數(shù)KD、Kon、Koff測試 |
| 8 | 自動微生物快速鑒定儀（自動微生物鑒定系統(tǒng)） | GEN III MicroStation | 微生物鑒定 |
| 9 | 多功能激光加工機 | JHM-2GX-2000W | 激光加工 |
| 10 | 車削中心 | QT300MA L/650 | 臥式車削加工 |
| 11 | 立式加工中心 | VCN-510CIIL | 立式銑削加工 |
| 12 | 氙燈老化箱 | XL-1000 | 氙燈老化箱 |
| 13 | 水蒸氣透過率測定儀 | W3-010 | 水蒸氣透過率測定儀 |
| 14 | 非接觸式全場應變測量系統(tǒng) | MTI-3DHR | 非接觸式全場應變測量系統(tǒng) |
| 15 | 小角X射線散射儀 | SAXSpace | 小角X射線散射儀 |
| 16 | 傅里葉變換紅外光譜儀 | FT/IR-6800 | 傅里葉變換紅外光譜儀 |
| 17 | 哈克轉矩流變儀 | PolyLabOS | 哈克轉矩流變儀 |
| 18 | 微流控生物分析系統(tǒng) | LabChip GXII Touch | 微流控電泳 |
| 19 | 高光譜納米熒光成像系統(tǒng) | HSI | 納米材料檢測及高光譜分析 |
| 20 | 電子順磁共振波譜儀（2018） | EMXplus-9.5/12 | 原位光照實驗測試,原位變溫實驗測試,電子自旋順磁測試,自由基電化學測試 |
| 21 | 高精度晶體線切割機 | WSD-2A | 晶體元件切割 |
| 22 | 超臨界流體色譜串聯(lián)四極桿質譜聯(lián)用儀 | Acquity UPCC/Xevo TQ-S micro | 液質聯(lián)用 |
| 23 | 廣角/小角X射線散射結構分析儀(SAXS/WAXS) | Nano-inXider | 室溫物相分析,變溫物相分析 |
| 24 | 顯微紅外光譜儀(SP-200i) | spotlight 200i | 顯微紅外分析,顯微紅外分析,顯微紅外分析,紅外光譜測試,顯微紅外分析 |
| 25 | 超分辨共聚焦顯微鏡 | Leica SP8 STED 3X | 超分辨STED,激光共聚焦顯微鏡觀察 |
| 26 | 電感耦合等離子體質譜 | Thermo iCAP RQ | 元素定量（除CHONF） |
| 27 | 熱重分析儀 | TG 209F3 | 熱重分析 |
| 28 | 原位超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡及能譜儀(SEM) | JSM-7800(Prime) | 樣品表面形貌掃描,高真空能譜分析 |
| 29 | X射線單晶衍射儀 | D8 Venture | 單晶衍射儀晶體結構分析 |
| 30 | 小動物CT/光學成像系統(tǒng) | Perkins Elmer | 掃描成像,核醫(yī)學影像,微納米三維成像,CT成像，內部結構分析,高對比度時高分辨成像(1線對/mm),高對比度時高分辨成像（50線對/mm）,CT成像,光學成像 |
| 31 | 涂膜機 | CEE-200CBX | ? |
| 32 | 氣質聯(lián)用儀GCMS-島津 | GCMS-QP2020 | 氣質聯(lián)用-物質定性定量分析,有機化合物的定性定量分析,物質定性分析 |
| 33 | 氣相色譜質譜聯(lián)用儀（氣質聯(lián)用儀GCMS） | GCMS QP2010 Ulltra | 氣質聯(lián)用,物質定性分析 |
| 34 | 和頻振動光譜儀 | Astrella-1k-USP | 表界面分子結構（自測）,表界面分子結構 |
| 35 | 雙光源X射線單晶衍射儀 | BRUKER D8 VENTURE | 單晶結構分析 |
| 36 | 比表面積及孔隙度分析儀(Asap2420) | ASAP2420-4 | 固體的比表面積、孔徑分布,微孔分析,介孔分析,固體的比表面積、孔徑分布 |
| 37 | 全自動反應量熱儀 | RC1e | 反應熱、反應比熱、反應焓及傳熱系數(shù) |
| 38 | 圓偏振熒光光譜儀(CPL-200) | CPL-200 | 圓偏振變溫光譜,圓偏振常溫光譜 |
| 39 | 穩(wěn)態(tài)/瞬態(tài)熒光光譜儀(Nanolog) | NanoLOG-TCSPC | 上轉換熒光測試,低溫熒光測試,絕對量子效率測試,熒光壽命測試,熒光光譜測試,熒光測試 |
| 40 | 600MHz液體核磁共振波譜儀 | AVANCE III HD 600 | 一維套譜1H+13C+DEPT135,DEPT/NOESY/ROESY/TOCSY/HMBC,QC/COSY,液體一維雜核譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關譜,液體二維碳譜,液體二維NOESY譜,液體二維ROESY譜,二維套譜COSY+HSQC+HMBC,液體譜（氫譜）,一維磷譜,液體一維雜核,液體一維氫譜、氟譜、磷譜,液體一維氧譜,液體二維相關譜,一維氫譜壓水峰實驗,液體譜（氫譜）,溶劑峰壓制,DEPT/NOESY/ROESY/TOCSY/HMBC,QC/COSY,一維套譜1H+13C+DEPT135,二維套譜COSY+HSQC+HMBC,液體核磁超時測量費用,液體一維雜核譜,液體一維碳譜 |
| 41 | X射線光電子能譜儀 | ESCALAB 250Xi | X射線光電子能譜-XPS,離子散射譜-ISS,俄歇電子能譜-Auger,紫外光電子能譜-UPS,反射電子能量損失譜-REELS,角分辨光電子能譜-ARXPS,深度剖析-Depth Profiling |
| 42 | 生物透射電子顯微鏡HT7700 | HT7700 | 顯微分析 |
| 43 | 單光子激光共聚焦成像系統(tǒng)(Z-760) | Zeiss 710 | 細胞或組織切片熒光顯微觀察 |
| 44 | 波長可調諧激光器和光譜測量系統(tǒng)(DQ-NIM) | NIM | 納米光學成像 |
| 45 | 納米位移控制成像系統(tǒng)(DQ-NeaSNOM) | NeaSNOM | 納米光學成像,納米光學成像 |
| 46 | 多通道熱膜流場測量系統(tǒng) | StreamLine Pro | 多通道熱膜流場 |
| 47 | 500兆固體核磁共振波譜儀 | AVANCE Ш HD 500MHz | 固體一維雜核譜,固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體二維相關譜,固體二維相關譜,固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體核磁超時測量費用 |
| 48 | 電子探針顯微分析儀1720H | 1720H | EPMA表面分析,EPMA表面分析 |
| 49 | 開爾文探針測試裝置 | SKP5050 | 金相、組織、結構分析 |
| 50 | 時間分辨、原位在線、高真空紅外光譜測試裝置 | Bruker V70v | 紅外光譜測試 |
| 51 | 可溯源計量型掃描電子顯微鏡(JC-Zeiss) | Merlin | 形貌成像及測量,形貌成像及測量 |
| 52 | 全自動程序升溫化學吸附儀（AutochemII 2920) | Autochem II 2920 | 比表面積和孔隙度分析,氣體吸附 |
| 53 | 液氮制冷差示掃描量熱儀（DSC8500) | DSC 8500 | 固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測量,模量及玻璃化轉變測定,液體熱物性測量 |
| 54 | 生物芯片點樣儀（YYL-AD3210） | AD3210 | 生物樣品陣列點樣 |
| 55 | 高分辨掃描探針成像與綜合物性測量系統(tǒng)(QXH-STM/AFM) | Sustomized VT STM/AFM system | 表面形貌測量,微納米尺度物性測量 |
| 56 | X射線計算機斷層成像儀[CT/XRM] | Xradia 410 Versa | CT成像，內部結構分析,CT成像，內部結構分析 |
| 57 | 400MHz核磁共振譜儀(Avance III) | AVANCE III HD 400 | 核磁共振譜,核磁H譜,核磁常規(guī)碳譜,核磁超長碳譜 |
| 58 | 尼康激光共聚焦-結構照明超分辨熒光顯微鏡 | N-C2-SIM | 共聚焦成像,激光共聚焦掃描成像,結構照明超分辨成像,結構照明超分辨成像,數(shù)據(jù)處理 |
| 59 | 磁性測量系統(tǒng) | MPMS-3 | 磁性測量,磁性材料磁性能分析,磁性材料磁性能分析,磁性材料磁性能分析 |
| 60 | 圓盤離心式納米粒度分析儀（GGL-DC24000） | DC24000 UHR | 粒度分析 |
| 61 | 超聲波檢測儀 | SAM300 | 無損檢測兩固體焊接或粘接層中的缺陷 |
| 62 | 精密測角儀 | PrismMaster HR300 | 任意兩個面的夾角、元件塔差 |
| 63 | 光學輪廓儀 | GT-K | 表面粗糙度、臺階高度 |
| 64 | 雙光子共聚焦/熒光壽命成像顯微鏡 | ARsiMP-LSM-Kit-Legend Elite-USX | 單光子共聚焦掃描成像,單光子熒光壽命成像,飛秒雙光子共聚焦掃描成像 |
| 65 | 500MHz核磁共振波譜儀 | AVANCE III HD 500 | 化合物結構分析和動力學研究,500兆液體核磁測試,500兆液體核磁測試 |
| 66 | 寬溫域熱物性測量系統(tǒng) | TPS 2500S； Q2000 DSC；BTF-1200C-VP | 材料導熱系數(shù)測量,材料導熱系數(shù)測量 |
| 67 | 掃描電子顯微鏡（HITACHI S-4300） | S-4300 | 掃描成像 |
| 68 | 微操作低溫探針臺-半導體特征參數(shù)分析儀 | CRX-4K, 4200-SCS | 介電性能、光學性能,I-V, C-V, Pulsed I-V,直流I-V測試,超快Pulsed I-V測試,電容電壓C-V測試,光激發(fā)測試 |
| 69 | 柔性光電器件制備系統(tǒng)（WZX-MB200） | MB200MOD | 物相分離 |
| 70 | 原位光電器件測試系統(tǒng)（HT-CIMPS-4） | CIMPS-4 | 電化學性質表征,光強度變化瞬態(tài)變化測試系統(tǒng),I-V，C-V測量,標準太陽電池測試,靜態(tài)、動態(tài)光電傳輸函數(shù)測試,動態(tài)透射/反射測量,光電化學發(fā)射測量,光譜分辨率透射/吸收光譜測量,電化學光電流譜測試 |
| 71 | 廣角/小角X射線散射結構分析儀(WZX-SAXS/WAXS) | XEUSS | 物質的散射和衍射,掠入射廣角X射線散射,掠入射廣角X射線散射高分辨,物質的散射和衍射 |
| 72 | 圓二色吸收光譜儀(J-1500) | J-1500 | 圓二色光譜儀常溫測試（CD）,附件ORCD測試,附件DRCD測試,圓二色變溫測試 |
| 73 | DHR流變儀 | DHR-2 | 流體粘彈性行為測量 |
| 74 | 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)(O-50B) | OHMIKER-50B | 薄膜沉積,薄膜沉積 |
| 75 | 納米級力學性能測試試驗機(Z-010) | Z010TE | 力學性能 |
| 76 | 多模式掃描探針顯微鏡（Bruker-M8） | Bruker Multimode-8 | 顯微分析,AFM形貌分析,peakforce力學測量,電磁學性能測量,AFM形貌分析 |
| 77 | 液相色譜-質譜聯(lián)用儀 | Q-Exactive | 高分辨ESI質譜,液相色譜-質譜聯(lián)用,電噴霧（ESI）質譜,高分辨ESI質譜 |
| 78 | 9.4T高分辨FT-MS質譜儀（物質區(qū)域中心） | Solarix 9.4T | 分子量測定 |
| 79 | 毛細管電泳色譜分析系統(tǒng) | CE7100 | 樣品分離 |
| 80 | 多功能勻膠烘膠機 | CEE200CBX | 勻膠烘膠 |
| 81 | 顯微分光光度計 | SP2560 Ni-U | 顯微分光光度計 |
| 82 | 磁控濺射鍍膜儀 | QPrep 400-BASE | 薄膜沉積 |
| 83 | 掃描近場光學顯微鏡 | NTEGRA Solaris，正置和倒置系統(tǒng) | 掃描近場顯微鏡 |
| 84 | 紫外光刻機 | ABM/6/350/NUV/DCCD/M | 光刻 |
| 85 | 耐壓性能測試儀 | HY-SLB-10k-W-N2 | 耐壓性能測試 |
| 86 | 高壓吸水率測試儀 | KJYs150 | 高壓吸水率測試 |
| 87 | X射線衍射儀（物質） | Empyrean | XRD,粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢,XRD晶體衍射分析,原位反應（惰性氣體）,原位反應（非惰性氣體）,Ka1系統(tǒng),粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢,XRD晶體衍射分析 |
| 88 | 電子束曝光系統(tǒng)(EBL) | Vistec EBPG 5000plus ES | 微納米結構制作 |
| 89 | 超導傅立葉核磁共振波譜儀（納米區(qū)域中心） | AVANCE IIITM 500 MHz | 布魯克超導傅里葉核磁共振譜儀 |
| 90 | X射線衍射儀（物質）（XRD） | Smartlab(9) | XRD晶體衍射分析 |
| 91 | X射線光電子能譜儀（物質） | ESCALAB 250Xi | XPS 表面分析 |
| 92 | 場發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡(QUANTA FEG 250) | QUANTA FEG 250 | 顯微分析 |
| 93 | 錒系材料表征分析平臺（微介孔物理吸附儀/離子阱質譜儀/電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀） | ASAP2020HD88 | 比表面積和孔隙度分析,電噴霧（ESI）質譜,ICP光譜分析 |
| 94 | 微尺度材料與結構光學特性評價系統(tǒng) | 研制 | 近紅外吸收/透過光譜分析 |
| 95 | 雙波長固體連續(xù)激光器 | EXLSR-1064-800-CDRH | 薄膜 |
| 96 | 寬波段可調諧飛秒激光器 | Mai Tai HP +Inspire Auto 100 | 薄膜,激光刻蝕 |
| 97 | 可調諧飛秒放大激光器 | Spitfire PRO-F1KXP | 薄膜,激光刻蝕 |
| 98 | 冷場發(fā)射雙球差校器透射電鏡（物質區(qū)域中心） | JEM ARM200F | 顯微分析 |
| 99 | 高分辨－高低溫－原位測量X射線衍射儀（物質區(qū)域中心） | D8 Advance | X射線衍射分析 |
| 100 | 激光三維加工設備 | Photonic Professional | 曝光 |
| 101 | 粉末X射線衍射儀（納米區(qū)域中心） | D8 Advance | 粉末X射線衍射,單晶結構分析,熱重分析 |
| 102 | 場發(fā)射透射電子顯微鏡JEM-2100F（納米區(qū)域中心） | JEM-2100F | 透射電子顯微鏡JEM–2100F |
| 103 | 超快時間分辨X射線衍射系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 研制 | 超快XRD測試 |
| 104 | 納米薄膜表征平臺（紅外/熱重/紫外近紅外/I-V測試/AFM） | iN10-IZ10/Q50/Cary5000/Keithley 4200/Dimension Edge | 紅外光譜測試 |
| 105 | 6300電子束曝光設備 | JBX-6300FS | 曝光 |
| 106 | 聚集離子束/電子束雙束Helios 600I 系統(tǒng) | Helios 600I | 結構加工 |
| 107 | X射線衍射儀P3（納米區(qū)域中心） | Empyrean | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢 |
| 108 | X射線衍射儀P2（納米區(qū)域中心） | Empyrean | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢 |
| 109 | 電感耦合等離子體質譜儀（GGL-ICP-MS） | NexION 300X | 痕量元素定量分析,元素形態(tài)分析 |
| 110 | 核磁共振微成像譜儀 Bruker AVIII 500WB（納米區(qū)域中心） | AVANCE III 500WB | 擴散系數(shù)核磁測定,500兆液體核磁測試,核磁微成像分析,擴散序譜,液體二維NOESY譜,液體二維氫氫相關譜,液體二維氫氫全相關譜,液體二維變溫氫氫相關譜,液體氫碳直接相關譜,一維選擇性激發(fā)譜,液體一維雜核譜,液體一維碳譜,液體一維變溫氫譜,液體一維變溫碳譜,液體一維變溫雜核譜,液體氫碳遠程相關譜,液體一維氫譜,核磁微成像分析 |
| 111 | 多功能光電子能譜儀（分子器件研究平臺） | AXIS ULTRA DLD | 多功能光電子能譜儀（分子器件平臺） |
| 112 | 掃描電子顯微鏡(HITACHI S-4800) | S-4800 | 掃描成像,顯微分析 |
| 113 | 小動物核磁共振成像儀(BS-70) | BioSpec70/20USR | 小動物核磁成像 |
| 114 | 冷凍組織切片機(CM-1950) | CM1950 | 低溫超薄切片 |
| 115 | 超薄切片機(UC-7) | UC7 | 低溫超薄切片,常溫超薄切片 |
| 116 | 單光子發(fā)射計算機斷層掃面(SPECT/CT) | Triumph X-SPECT/X-O CT | CT掃描,數(shù)據(jù)處理 |
| 117 | 多光束激光共聚焦成像系統(tǒng)(U-Vox) | UltraVIEW VoX | 細胞或組織切片熒光顯微觀察 |
| 118 | 多功能氣溶膠粒度分析儀(Cell) | whole body&nose only&cell culture | 基因表達的差異分析 |
| 119 | 120KV透射電子顯微鏡(Ht-7700) | HT7700 | 顯微分析 |
| 120 | 雙面對準接觸式紫外光刻機(Ma-6) | MA6 | 微納米結構制作 |
| 121 | 熱場發(fā)射高分辨掃描電鏡(N-430) | NOVA Nano SEM 430 +EDS | 表面形貌測量,元素成分分析,低真空掃描電鏡成像 |
| 122 | 高密度等離子體增強化學氣相沉積設備(ICP-CVD) | SI500 | 薄膜沉積 |
| 123 | 磁控濺射鍍膜系統(tǒng)（Lab-18） | Lab 18 | 薄膜沉積 |
| 124 | 金屬高密度等離子體刻蝕機(ICPRIE-500) | SENTECH PTSA ICP-RIE ETCHER SI 500 | 刻蝕 |
| 125 | 硅刻蝕高密度等離子體刻蝕機(ICPRIE-180) | Oxford Plasmalab System100 ICP180 | 刻蝕 |
| 126 | 圓二色光譜儀 | J-815 | 圓二色光譜變溫測試 |
| 127 | 宏量制備高效液相色譜（納米區(qū)域中心） | NEXT-800型+Buchyprep-M+非標輔助設備 | 宏量制備高效液相色譜 |
| 128 | 連續(xù)式金屬富勒烯制備設備（納米區(qū)域中心） | 非標 | 連續(xù)式金屬富勒烯制備設備 |
| 129 | 粒子成像測速系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | FlowMaster | 激光掃描共聚焦顯微鏡（LSCM）變溫測試,三維速度場測量,燃燒場流場測量,力學性能測試 |
| 130 | 多普勒粒度分析儀（物質區(qū)域中心） | Fiber PDA | 單點速度測量,粒度分析,燃燒場流場測量 |
| 131 | 三維激光多普勒測速儀（物質區(qū)域中心） | FlowLite | 粒度分析,燃燒場流場測量,單點速度測量,霧化顆粒度分析,單點三維速度測量 |
| 132 | 動態(tài)光散射粒度儀（生化） | NANO ZS | 粒徑測定 |
| 133 | 超高效液相色譜質譜聯(lián)用儀（物質） | UPLC H-Class/xevo G2-S TOF | 液質聯(lián)用 |
| 134 | 石英晶體微天平 | Q-SENSE E4 | 生物分子相互作用 |
| 135 | 高分辨場發(fā)射透射電子顯微鏡 | JEM-2100F | 場發(fā)射透射電鏡顯微分析 |
| 136 | 多色高速流式細胞分選儀（生化） | MoFlo XDP | 流式細胞分選儀-細胞、顆粒、細胞分選 |
| 137 | 熱重-差熱分析儀（TG/DTA ）按個數(shù)收費 | TG-DTA6300 | 熱重分析,熱重紅外聯(lián)用 |
| 138 | 600MHz核磁共振（生化） | AVANCE III | 液體一維氫譜,液體一維碳譜,二維譜HSQC |
| 139 | X射線熒光光譜儀（多相XRF） | AXIOS | 粉末X熒光半定量分析,XRF制樣壓片 |
| 140 | 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡與能譜分析儀（多相顆粒分中心） | JSM-7001F+INCA X-MAX | 高真空能譜分析,表面形貌掃描,電鏡樣品噴金,電鏡樣品制備噴碳 |
| 141 | 熱重-質譜聯(lián)用儀（物質區(qū)域中心） | 自開發(fā) | 熱重分析 |
| 142 | 掃描探針顯微鏡Bruker | Bruker Multimode 8 | 表面形貌測量 |
| 143 | 激光掃描共聚焦顯微鏡 | A1R MP | 激光共聚焦顯微鏡（CLSM)測試 |
| 144 | 激光掃描拉曼顯微鏡 | Raman-11 | 拉曼光譜分析 |
| 145 | X射線衍射儀(TZY-Xrd) | D/MAX-TTRIII(CBO) | 物相分析 |
| 146 | X射線光電子能譜儀（XPS） | ESCALAB250Xi | XPS表面分析 |
| 147 | 場發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡微操縱加工系統(tǒng)(HD-Q-200) | Quanta 200 FEG | 低真空掃描電鏡成像,環(huán)境掃描條件成像,電子束曝光,高真空掃描電鏡成像,納米微操縱儀 |
| 148 | 多功能活體成像系統(tǒng)（生化） | KODAK In-Vivo Imaging System FX Pro | 多功能活體成像系統(tǒng) |
| 149 | GPU超級計算系統(tǒng) | Mole-8.5 | 超算分析-CPU,超算分析-GPU |
| 150 | 物理化學吸附儀（BET TPR比表面孔徑分布化學吸附） | NOVA3200e and iQ | 孔分布,比表面分析,比表面積和孔隙度分析,靜態(tài)化學吸附,固體的比表面積、孔徑分布 |
| 151 | Bruker原子力顯微鏡（生化） | FASTSCANBIO | 原子力樣品表面形貌掃描,樣品表面性質分析 |
| 152 | 700MHz液體核磁共振譜儀（物質） | AVANCE III | 固體一維氫譜,ROESY,一維選擇性激發(fā)譜,液體一維碳譜,DEPT90，DEPT135,液體一維19F 譜,一維套譜1H+13C+DEPT135,DOSY擴散序譜,HSQC(HMQC),HMBC,雜核一維譜圖,DEPT90，DEPT135,液體一維氫譜,弛豫時間的測定,DEPT90，DEPT135,二維H-H COSY,TOCSY,前處理,液體一維雜核,雜核一維譜圖,DEPT135,一維氫譜壓水峰實驗,液體一維氧譜,一維磷譜,NOESY/ROESY,DEPT/NOESY/ROESY/TOCSY/HMBC |
| 153 | 液質聯(lián)用LCMS/ESI/QTOF | UPLC-QTOF | 液-質聯(lián)用分析,電噴霧質譜分析,電噴霧質譜分析,電噴霧質譜分析,UPLC定量分析,UPLC定量分析,電噴霧質譜分析,電噴霧（ESI）質譜,質譜解析/二級質譜解析,電噴霧質譜分子量檢測,質譜解析/二級質譜解析,液質聯(lián)用,UPLC定量分析 |
| 154 | 電感耦合等離子體光譜儀icp-oes（物質） | iCAP 6300 | ICP光譜10元素分析,ICP光譜7元素分析,ICP光譜13元素以上分析,ICP光譜11元素分析,ICP光譜12元素分析,ICP光譜9元素分析,ICP光譜8元素分析,ICP光譜1元素分析,ICP光譜2元素分析,ICP光譜3元素分析,ICP光譜4元素分析,icp-oes數(shù)據(jù)分析,icp光譜分析標液,ICP光譜6元素分析,ICP光譜5元素分析 |
| 155 | 液相色譜-質譜聯(lián)用儀（納米區(qū)域平臺) | Bruker micrOTOFQ-II | 液質聯(lián)用 |
| 156 | 生物型原子力顯微鏡（納米區(qū)域中心） | Agilent 5500 | 磁性材料成像,表面形貌測試,活細胞表面形貌,液體環(huán)境中成像,分子識別 |
| 157 | 熒光分光光度計（納米區(qū)域中心） | RF-5301PC | 熒光光譜測試 |
| 158 | 分子熒光光譜儀 Spectrofluometer（納米區(qū)域中心） | Fluorolog-3 FL3-21 | 定量分析，構象變化 |
| 159 | 等電聚焦電泳儀（納米區(qū)域中心） | PROTEAN IEF cell | 蛋白等電點及/或分子量的差異分析 |
| 160 | 離子束刻蝕系統(tǒng) | LKJ-3D-150 | 金相、組織、結構分析 |
| 161 | 光譜橢偏儀(SE-850) | SE 850 DUV | 薄膜光學參數(shù)測量 |
| 162 | Ｘ射線微米CT（物質區(qū)域中心） | Mirco-CT200 | CT成像，內部結構分析 |
| 163 | 氦液化裝置（物質區(qū)域中心） | L70 | ? |
| 164 | 礦物解離分析儀（MLA）（物質區(qū)域中心） | FEI MLA 250 | 鑲嵌,MLA測試,電鏡低真空掃描模式,電鏡高真空掃描模式,電鏡環(huán)境掃描模式,能譜分析,低真空能譜分析,磨拋,高真空能譜分析,電鏡樣品噴金,電鏡樣品制備噴碳,噴金 |
| 165 | X熒光光譜儀XRF（物質） | AXIOS | 粉末X熒光半定量分析，固體X熒光半定量分析,XRF樣品制備壓片，XRF液體樣品分析，XRF制樣壓片 |
| 166 | 激光共聚焦顯微鏡[Leica] | Leica TCS SP 5 | 樣品表面原子力成像,樣品表面形貌掃描,激光共聚焦顯微鏡觀察,原子力顯微鏡樣品表面觀察,樣品表面原子力成像,激光共聚焦顯微鏡觀察 |
| 167 | 細胞分析系統(tǒng)（流式細胞儀） | CyAn ADP | 流式細胞儀熒光檢測，流式細胞儀-細胞分選 |
| 168 | 冷場發(fā)射掃描電子顯微鏡 | JSM-6700F | 樣品斷面離子拋光,樣品表面形貌掃描,樣品表面形貌掃描,掃描電鏡樣品前期處理,樣品斷面離子拋光 |
| 169 | 圓二色光譜儀 | JASCO J-810 | 蛋白質二級結構分析 |
| 170 | 日立S-4800掃描電子顯微鏡（納米區(qū)域中心） | s-4800 | 樣品表面形態(tài)及結構分析 |
| 171 | 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)(納米區(qū)域中心) | System100 PECVD System | 薄膜沉積 |
| 172 | UltimaIV型粉末X射線衍射儀(物質區(qū)域中心) | UltimaIV | 晶體結構 |
| 173 | 裂解器、氣相色譜-質譜聯(lián)用儀（納米區(qū)域中心） | GCMS-QP2010 | 氣相色譜質譜儀, 裂解器 |
| 174 | 差示掃描量熱儀（物質區(qū)域中心） | DSC6220 | 吸放熱分析 |
| 175 | 小動物正電子發(fā)射斷層掃描儀（物質區(qū)域中心） | Eplus-166 | 核醫(yī)學影像 |
| 176 | 生物大分子系統(tǒng)1W2B(物質區(qū)域中心) | 非標 | 晶體形態(tài)的生物大分子 |
| 177 | 生物大分子系統(tǒng)3W1A（物質區(qū)域中心） | 非標 | 晶體結構 |
| 178 | 同步熱分析儀Q600（物質區(qū)域中心） | Q600 | 同步熱分析儀Q600,同步熱分析儀Q600,同步熱分析儀Q600 |
| 179 | 高溫力學性能測試儀（物質區(qū)域中心） | instron5567 | 力學性能測試 |
| 180 | 高效毛細管電泳儀（納米區(qū)域中心） | 1229 | 光活性化合物e.e.值的測定,物質含量 |
| 181 | 微透析取樣（納米區(qū)域中心） | ＢＡＳ | 產(chǎn)品性能分析,溶解待測樣品,自由基電化學檢測 |
| 182 | Autolab電化學工作站（納米區(qū)域中心） | ＰＧＳＴＡ３０２ | 電化學工作站分析項目,電化學工作站分析項目 |
| 183 | 電子束蒸發(fā)鍍膜儀(Boc-500) | BOC-500 | 薄膜沉積,薄膜 |
| 184 | 液質聯(lián)用儀(物質區(qū)域中心) | LCMS2010 | ESI直接進樣,電噴霧（ESI）質譜,液質聯(lián)用 |
| 185 | LIGA和光刻系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 非標 | X射線及紫外光曝光 |
| 186 | X射線熒光分析系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | 非標 | 4W1B |
| 187 | X射線漫散射線系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | 非標 | 1W1A漫散射實驗站 |
| 188 | 高壓Raman系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 非標 | 高壓拉曼實驗方法 |
| 189 | 高壓X射線衍射系統(tǒng)（物質區(qū)域中心）(2014年修購） | 非標 | 高壓衍射分析方法 |
| 190 | 軟X射線光學系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | BSRF-4B7B-RM | 平面鏡標定,XRD響應標定,樣品內部形態(tài)及結構分析,濾片透過率標定,樣品表面形態(tài)及結構分析 |
| 191 | 中能X射線譜學系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 研制 | XRD響應標定,樣品內部形態(tài)及結構分析,濾片透過率標定,樣品表面形態(tài)及結構分析 |
| 192 | 康塔全自動物理化學吸附儀(物質區(qū)域中心) | AUTOSORB-1-C-TCD | 靜態(tài)化學吸附,動態(tài)化學吸附,BET比表面積,固體的比表面積、孔徑分布,微孔分析 |
| 193 | 常規(guī)正電子湮沒多參數(shù)符合測量系統(tǒng)CDB（物質區(qū)域中心） | 非標 | 樣品內部形態(tài)及結構分析 |
| 194 | 常規(guī)正電子湮沒壽命譜儀（物質區(qū)域中心） | 非標 | 樣品內部形態(tài)及結構分析 |
| 195 | 慢正電子束流裝置（物質區(qū)域中心） | 非標 | 多普勒展寬譜,多普勒展寬譜,薄膜,符合多普勒 |
| 196 | 光散射系列 | Dybapro NanoStar；OPTILAB rEX; HELEOSII | 動態(tài)光散射儀 |
| 197 | 反應等離子體刻蝕機（RIE-200） | ETCHLAB 200 | 刻蝕 |
| 198 | 單面對準紫外光刻機(Mjb-4) | MJB4 | 微納米結構制作, 納米光學成像 |
| 199 | 短周期渦輪實驗臺（物質區(qū)域中心） | 自研制 | 力學性能測試 |
| 200 | 全光譜激光掃描共聚焦顯微鏡 | Nikon c1 Si | 大尺寸工件任意斷層、透視成像,激光共聚焦掃描成像 |
| 201 | 比表面及孔隙度分析儀 | Quadrasorb SI-MP | 固體的比表面積、孔徑分布 |
| 202 | 納米光子學超細微加工系統(tǒng) | 研制 | 刻蝕 |
| 203 | 材料低溫熱物性測量裝置 | 研制 | 熱輸運測量（熱導率、seebeck系數(shù)、品質因子） |
| 204 | 0.65K~24.5561K 溫度計標準裝置 | LHE3 | 溫度試驗 |
| 205 | 13.8033K~273.16K溫度計標準裝置 | LHE4 | 溫度試驗 |
| 206 | 低溫環(huán)境模擬測試裝置 | 研制 | 環(huán)境模擬,環(huán)境模擬 |
| 207 | 顯微共焦激光拉曼光譜儀 | inVia-Reflex | 拉曼光譜分析 |
| 208 | 紫外-可見-近紅外分光光度計 | Cary 5000 | 紫外可見近紅外分析 |
| 209 | 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 | Varian 710－OES | ICP光譜分析 |
| 210 | 傅里葉變換紅外光譜儀 | Excalibur 3100 | 紅外光譜測試，中紅外單次衰減全反射測試(ATR) |
| 211 | 變溫電子順磁共振波譜儀 | E 500 | 自由基電化學檢測,電子自旋順磁檢測 |
| 212 | 場發(fā)射掃描電子顯微鏡-6700F（納米區(qū)域中心） | JSM-6700F | 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 ,樣品表面形態(tài)及結構分析 |
| 213 | 酶標儀（納米區(qū)域中心） | SpectraMax M5 | 酶聯(lián)免疫吸附檢測,紫外可見光譜,紫外可見光吸收/透過分析,熒光光譜測試 |
| 214 | 冷場發(fā)射掃描電鏡（納米區(qū)域中心） | JEOL JSM-6701F | 表面形貌測量,元素成分分析,顯微分析,顯微分析 |
| 215 | 超導核磁共振波譜儀 | Avance-400 | 液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關譜,液體二維ROESY譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關譜,液體二維ROESY譜 |
| 216 | 飛秒摻鈦藍寶石脈沖激光器 | SP-5W | LD光譜測試,近紅外吸收/透過光譜分析,紅外光譜測試,紫外可見光吸收/透過分析,熒光光譜測試 |
| 217 | “廊坊園區(qū)”-時間分辨熒光光譜儀(熒光壽命) | F900 | 熒光光譜測試 |
| 218 | “廊坊園區(qū)”-激光閃光光解光譜儀(瞬態(tài)吸收) | LP920 | 紫外可見光吸收/透過分析 |
| 219 | 透射電子顯微鏡(JEM-2100) | JEM-2100 | 顯微分析,掃描成像 |
| 220 | 激光解吸飛行時間質譜儀(Microflex) | Microflex | 飛行時間質譜 |
| 221 | 高能所試驗束裝置 | IHEP-BTF | ? |
| 222 | 真空紫外實驗系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 研制 | 熒光光譜測試,園二色光譜儀常溫測試(CD),反射光譜,透射光譜 |
| 223 | 225KV?。厣渚€顯微CT(物質區(qū)域中心) | 225-3Ｄ-ｕＣＴ | CT三維重構,CT缺陷分析,CT逆向工程分析,CT成像，內部結構分析,CT尺寸測量 |
| 224 | 高能工業(yè)CT無損檢測系統(tǒng)(GY-6-ACT)(物質區(qū)域中心) | 研制 | CT缺陷分析,CT尺寸測量,CT逆向工程分析,CT三維重構,CT結構分析 |
| 225 | 450KV工業(yè)CT無損檢測系統(tǒng)(GY-450-ICT)(物質區(qū)域中心) | 研制 | CT尺寸測量,CT逆向工程分析,CT缺陷分析,CT三維重構,CT結構分析 |
| 226 | 微型流化床反應動力學分析儀(物質區(qū)域中心) | MFBRA | 熱分析（動力學分析） |
| 227 | 過程質譜儀(物質區(qū)域中心) | PROLINE | 氣體成分分析,氣體成分分析 |
| 228 | 納米粒度與Zeta電位分析儀(物質) | DelsaNano C | 粒度,zeta電位,納米粒度或Zeta電位,zeta電位 |
| 229 | 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（物質） | Optima 5300DV | ICP光譜3-5元素分析,ICP光譜7元素分析,ICP光譜10元素分析,ICP光譜12元素分析,ICP光譜全元素分析,ICP光譜6元素分析,ICP光譜8元素分析,ICP光譜11元素分析,ICP光譜9元素分析,ICP光譜13元素以上分析,ICP光譜1-2元素分析,ICP光譜2元素分析,ICP光譜13元素分析,ICP光譜14元素分析,ICP光譜15元素以上分析,ICP光譜1元素分析,ICP光譜3元素分析,ICP光譜4元素分析,ICP光譜5元素分析,ICP光譜15元素分析 |
| 230 | X射線微納米成像系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 非標 | 微納米三維成像 |
| 231 | 光電子能譜系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | 非標 | XPS表面分析 |
| 232 | X射線吸收譜學系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | 非標 | 束線狀態(tài)維護,樣品內部形態(tài)及結構分析 |
| 233 | 小角X射線散射系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | 研制 | 同步輻射小角散射 |
| 234 | X射線衍射系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | 非標 | 結構解析 |
| 235 | 六硼化鑭透射電子顯微鏡(納米區(qū)域中心) | JEM-2100(UHR) | 顯微分析,晶體結構,元素成分分析 |
| 236 | 物理吸附儀-BET-比表面 | AUTOSORB-IQ-XR-C | BET比表面積,比表面分析,介孔分析,微孔分析,比表面分析 |
| 237 | 綜合熱分析儀(物質) | STA449C | 熱重分析,吸放熱分析,熱重紅外聯(lián)用,TGA/DSC小于900度分析 |
| 238 | X射線衍射儀（顆粒） | X’Pert PRO MPD 大廈124 | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢,XRD晶體衍射分析 |
| 239 | 激光粒度分析儀(物質區(qū)域中心) | Mastersizer 2000 | 粒度分析 |
| 240 | 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)-LMF | Peva-600E | 薄膜沉積 |
| 241 | 多組份氣體分析儀（物質區(qū)域中心） | DX4000 | 氣體成分分析,煙氣分析 |
| 242 | 諧波法微尺度材料導熱測量儀（物質區(qū)域中心） | 自研制 | 液體熱物性測量,固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測量,TGA/DSC分析,塊體材料熱物性測量,液體、粉體熱物性測量,薄膜熱物性測量,纖維熱物性測量 |
| 243 | 飛秒激光熱反射薄膜導熱測量儀（物質區(qū)域中心） | 自研制 | 飛秒級超快熱過程測量,液體熱導率測量,固體熱導率測量,界面熱阻/界面熱導測量 |
| 244 | X射線衍射儀 | D8 focus | 晶體結構 |
| 245 | 物理性能測量系統(tǒng)（PPMS-9） | PPMS-9 | 直流磁化強度(VSM測量),熱輸運測量-2端法,直流電阻測量,交流磁化率,比熱測量,高溫VSM測量2,交流磁化率2,交流電輸運測量 |
| 246 | 氣相色譜/高分辨飛行時間質譜聯(lián)用儀（GCT Premier ） | GCT Premier | 高分辨EI,飛行時間質譜,氣質聯(lián)用,低分辨EI質譜, 高分辨質譜 |
| 247 | 透射電子顯微鏡(JEM-2100F) | JEM-2100F | 顯微分析 |
| 248 | 單色儀(物質區(qū)域中心) | SpectraPro-500i | 近紅外吸收/透過光譜分析,紫外可見光吸收/透過分析,紫外可見光吸收/透過分析, |
| 249 | 連續(xù)波鈦寶石激光器(物質區(qū)域中心) | 3900S | 薄膜,晶體結構,熒光光譜測試 |
| 250 | 高分辨透射電子顯微鏡(物質區(qū)域中心) | JEM2100PLUS | 晶體結構 |
| 251 | 場發(fā)射掃描電鏡(物質區(qū)域中心) | XL30 S－FEG | 晶體結構 |
| 252 | 飛秒摻鈦寶石激光器(物質區(qū)域中心) | TSA-10 | 薄膜,飛秒量級超快熱過程測量 |
| 253 | 皮秒Nd:YAG脈沖激光器(物質區(qū)域中心) | PL2143B | 晶體結構,熒光光譜測試 |
| 254 | 磁性測量系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | MPMS XL-7 | 低溫物性分析,磁性材料磁性能分析,室溫介電常數(shù)、磁導率及損耗 |
| 255 | 18KW轉靶X射線衍射儀(物質區(qū)域中心) | M18XHF | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢 |
| 256 | X射線衍射儀(物質區(qū)域中心) | PDPW3040/60 | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢 |
| 257 | C樓電感耦合等離子體刻蝕系統(tǒng) | Plasmalab System 100 ICP180 | 刻蝕 |
| 258 | 真空鍍膜機 | RZF400 | 薄膜沉積 |
| 259 | 原子層沉積系統(tǒng) | Savannah-100 | 薄膜沉積 |
| 260 | 臺階儀 | Dektak XT | 表面形貌測量 |
| 261 | C樓反應離子刻蝕系統(tǒng) | Plasmalab 80 plus | 刻蝕 |
| 262 | 亞微米紫外光刻掩模對準系統(tǒng) | MA6 | 曝光 |
| 263 | 聚焦離子束DB235系統(tǒng) | Strata DB 235 | 結構加工 |
| 264 | 電子束曝光系統(tǒng) | Raith 150 | 曝光 |
| 265 | SPEX-1403雙光柵拉曼光譜儀(物質區(qū)域中心) | SPEX-1403 | 拉曼光譜分析, 熒光光譜測試 |
| 266 | TU-1901雙光束紫外可見分光光度計(物質區(qū)域中心) | TU-1901 | 紫外可見光吸收/透過分析 |
| 267 | IRIS Intrepid II全譜直讀等離子體光譜儀(物質區(qū)域中心) | IRIS Intrepid II | ICP光譜分析 |
| 268 | FTS-60V雙真空傅里葉變換紅外(FT-IR)光譜儀系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | FTS-60V | 紅外光譜測試 |
| 269 | HR-800高分辨單級拉曼光譜儀(物質區(qū)域中心) | HR-800 | 熒光光譜測試, 拉曼光譜分析 |
| 270 | JY-T64000模塊式三級拉曼光譜儀系統(tǒng)(物質區(qū)域中心) | JY-T64000 | 拉曼光譜分析, 比熱測量 |
| 271 | 氣相色譜質譜聯(lián)用(納米區(qū)域中心) | SATURN2000 | 氣質聯(lián)用, 有機化合物定量分析 |
| 272 | 激光共聚焦(confocal)顯微鏡細胞實時成像系統(tǒng)（尼康熒光顯微鏡+ UltraVIEW VoX共聚焦單元）(納米區(qū)域中心) | Nikon- Ti + UltraVIEW VoX | 顯微分析,激光共聚焦顯微鏡（CLSM)測試,ROI圖象區(qū)域分析,顯微分析 |
| 273 | 高效液相- 電感耦合等離子質譜體聯(lián)用儀(納米區(qū)域中心) | Thermo-X7 | 化學元素定量分析 |
| 274 | 碳納米材料合成真空裝置(納米區(qū)域中心) | 加工 | 材料合成 |
| 275 | 酶標儀(納米區(qū)域中心) | SpectraMax M2 | 酶聯(lián)免疫吸附檢測 |
| 276 | 熒光倒置顯微鏡(納米區(qū)域中心) | Olypus IX71 | 顯微分析 |
| 277 | 激光解析飛行時間質譜(納米區(qū)域中心) | UltrafleXtreme | 分子量測定 |
| 278 | 分選型流式細胞儀(納米區(qū)域中心) | ARIAIII | 電泳條帶分析 |
| 279 | 高效液相色譜儀平臺(納米區(qū)域中心) | LC-9104 | 富勒烯分離 |
| 280 | 傅立葉紅外光譜儀6700（物質區(qū)域中心） | 6700FTIR | 紅外光譜測試, 紅外光譜測試 |
| 281 | 納米粒度和ZETA電位分析儀（納米區(qū)域中心） | Zetasizer Nano ZS ZEN3600 | 納米粒度或Zeta電位, 激光光散射儀 |
| 282 | 鎢燈絲掃描電子顯微鏡（S-3400) | Hitachi S－3400N | 表面形貌測量 |
| 283 | 機械制冷差示掃描量熱儀（Diamond DSC) | Diamond DSC | 模量及玻璃化轉變測定,液體熱物性測量,固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測量,吸放熱分析 |
| 284 | 單站全自動微孔比表面積和孔隙度分析儀(Asap-2020 | ASAP2020（M+C) | 固體的比表面積、孔徑分布 |
| 285 | 差熱/熱重綜合分析儀（TG/DTA） | Diamond TG/DTA | 固體材料（體、膜、纖維等）熱物性測量,液體熱物性測量,熱重分析,吸放熱分析 |
| 286 | 納米粒度及Zeta電位分析儀(NZS) | Zetasizer? Nano ZS | 納米粒度或Zeta電位， 粒度分析 |
| 287 | 多模式掃描探針顯微鏡（M-Pico） | Multimode | AFM形貌分析, 形貌成像及測量 |
| 288 | 六硼化鑭透射電子顯微鏡（T-20) | Tecnai G2 20 S-TWIN | 顯微分析 |
| 289 | 傅立葉變換紅外光譜儀(S-One) | Spectrum One | 紫外可見光吸收/透過分析，紅外光譜測試，紅外光譜通用附件，紅外光譜通用附件，衰減全反射附件-HATR |
| 290 | 紫外/可見/近紅外分光光度計(Lambda-950) | Lambda 950 | 紫外可見近紅外分析，紫外光譜通用附件，紫外積分球測漫反射附件 |
| 291 | 半導體特性測試系統(tǒng)（Scs-4200） | 4200-SCS | I-V，C-V測量，IV+低溫探針臺 |
| 292 | 激光拉曼光譜儀(Renishaw) | Renishaw inVia plus | 拉曼光譜分析 |
| 293 | 掃描探針顯微鏡AFM2（納米區(qū)域中心） | Ⅲa | 樣品表面形態(tài)及結構分析，掃描探針顯微鏡AFM |
| 294 | 電子順磁共振儀（納米區(qū)域中心） | ESP-300 | 電子自旋順磁檢測, 自由基電化學檢測 |
| 295 | 液體核磁共振波譜儀 Avance300（納米區(qū)域中心） | Avance300 | 電子自旋順磁檢測,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體二維氫氫相關譜 |
| 296 | 磁控濺射鍍膜儀(Acs-4000) | ACS-4000-C4 | 薄膜 |
| 297 | 單晶衍射儀固定靶（單晶-2物質區(qū)域中心） | ST Saturn724+ | 單晶結構分析 |
| 298 | 微波介電常數(shù)與磁導率測試系統(tǒng)（物質區(qū)域中心） | 主機E8363B 40M-40GHz | 室溫介電常數(shù)、磁導率及損耗,高溫介電常數(shù)、磁導率及損耗 |
| 299 | 掃描電子/聚焦離子束雙束系統(tǒng)(SEM/FIB) | Nova200 NanoLab | 聚焦離子束加工,表面形貌測量,掃描電鏡表面形貌測量,電子束曝光 |
| 300 | 場發(fā)射透射電子顯微鏡(F-20) | Tecnai G2 F20 U-TWIN | 晶體結構，顯微分析，元素成分分析 |
| 301 | 冷場發(fā)射掃描電子顯微鏡（S-4800) | Hitachi S4800＋EDS | 表面形貌測量，元素成分分析，形貌成像及測量 |
| 302 | 高分辨雙聚焦質譜系統(tǒng)(FD－MS)（物質區(qū)域中心） | DFS | 分子量測定，高分辨EI，場解析質譜 |
| 303 | 液相色譜質譜聯(lián)用儀(納米區(qū)域中心) | Q-TOF | 電噴霧（ESI）質譜，液質聯(lián)用 |
| 304 | 氣相色譜質譜聯(lián)用儀(物質區(qū)域中心) | QP2010 | 氣質聯(lián)用，低分辨EI質譜 |
| 305 | 氣相色譜質譜聯(lián)用儀(納米區(qū)域中心) | GCT | 低分辨EI質譜，高分辨質譜 |
| 306 | 飛行時間質譜儀(納米區(qū)域中心) | Autoflex III | 飛行時間質譜，MALDI-TOF質譜測試 |
| 307 | 凝膠滲透色譜儀(THF) （物質區(qū)域中心） | 1515 | GPC凝膠滲透色譜儀,凝膠滲透色譜（THF）,分子量測定 |
| 308 | 元素分析儀(物質區(qū)域中心) | Flash EA 1112 | S元素含量測定，Cl(Br)元素含量測定，粘稠狀樣品CHN元素分析，固體樣品CHN元素分析，O元素分析測定 |
| 309 | 透射電子顯微鏡JEM-1011(物質區(qū)域中心) | JEM-1011 | 透射電子顯微鏡JEM-1011 |
| 310 | 場發(fā)射掃描電子顯微鏡S-4800(物質區(qū)域中心) | S-4800 | 掃描電子顯微鏡S-4800 |
| 311 | 透射電子顯微鏡JEM－2010(納米區(qū)域中心) | JEM－2010 | 透射電子顯微鏡JEM-2011 |
| 312 | 場發(fā)射掃描電子顯微鏡S-4300(納米區(qū)域中心) | S-4300 | 掃描電子顯微鏡S-4300 |
| 313 | 激光共聚焦顯微鏡(物質區(qū)域中心) | OLYMPUS FV1000-IX81 | 激光掃描共聚焦顯微鏡（CLSM）常溫測試,熒光顯微CCD測試 |
| 314 | 圓二色光譜儀(CD)(納米區(qū)域中心) | J-815 | 圓二色光譜儀常溫測試(CD),圓二色光譜常溫測試 |
| 315 | 傅立葉紅外光譜儀(納米區(qū)域中心) | TENSOR-27 | 中紅外單次衰減全反射測試(ATR),紅外光譜測試,中紅外漫反射測試,中紅外漫反射測試,紅外光譜測試 |
| 316 | 納米壓印機(Hex-1) | HEX-01 | 微納米結構制作 |
| 317 | 熒光光譜儀（物質區(qū)域中心) | F-4500 | 熒光光譜測試 |
| 318 | 光電子能譜儀(納米區(qū)域中心) | ESCALab220i-XL | XPS表面分析,XPS表面分析 |
| 319 | 單晶衍射儀007HF（單晶-3物質區(qū)域中心） | MM007HF Saturn724+ | 單晶結構分析 |
| 320 | 液體核磁共振波譜儀 DMX300(物質區(qū)域中心) | Bruker DMX300 | 液體一維升溫碳譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體一維升溫雜核,液體一維升溫氫譜,常規(guī)核磁測試,升溫核磁測試,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體一維氫譜 |
| 321 | 液體核磁共振波譜儀 AVANCE 400(物質區(qū)域中心) | Bruker Avance 400 | 液體一維碳譜,液體一維19F 譜,液體一維氫譜 |
| 322 | X射線衍射裝置P1（物質區(qū)域中心） | D/max 2500 | 粉末數(shù)據(jù)收集及數(shù)據(jù)庫查詢 |
| 323 | 液體核磁共振波譜儀 AVANCE 600（納米區(qū)域中心) | Bruker AVANCE 600 | 液體二維低溫氫氫相關譜,液體一維低溫氫譜,液體一維低溫碳譜和雜核譜,液體一維19F 譜,擴散序譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體二維氫氫全相關譜,液體二維NOESY譜,液體二維ROESY譜,液體氫碳直接相關譜,液體氫碳遠程相關譜,一維選擇性激發(fā)譜,液體一維氫譜,液體一維碳譜,液體一維雜核譜,液體二維氫氫相關譜,液體二維氫氫全相關譜,液體二維NOESY譜,液體二維ROESY譜,液體氫碳直接相關譜,液體氫碳遠程相關譜,一維選擇性激發(fā)譜,擴散序譜 |
| 324 | 固體核磁共振波譜儀 AVANCE III 400(物質區(qū)域中心) | AVANCE III 400 | 固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體一維碳譜,固體一維雜核譜,固體一維雜核譜,固體一維氫譜,固體一維碳譜,固體一維雜核譜 |